[实用新型]一种氨还原反应器的气体除杂装置

权利要求书

1.一种氨还原反应器的气体除杂装置，包括支撑腿(1)，其特征在于：所述支撑腿(1)的上方固定安装有器身(2)，所述器身(2)的左端固定安装有第一进气管(4)，所述器身(2)的顶端活动安装有顶盖(5)，所述顶盖(5)的上方固定安装有第二进气管(6)，所述器身(2)的右端活动安装有温度计(7)，所述温度计(7)的下方固定安装有出气管(10)，所述出气管(10)上固定安装有石蕊棒(8)，所述石蕊棒(8)的右侧固定安装有阀门(9)，所述出气管(10)的左端固定安装有除氨罐(11)，所述除氨罐(11)的左端固定安装有连接管(12)，所述连接管(12)的顶端固定安装有挡板(3)，所述器身(2)的内部固定安装有固定架(15)，所述固定架(15)的内部开设有冷却槽(14)，所述冷却槽(14)的左端固定安装有水管(13)，所述固定架(15)上活动安装有催化剂床层(16)，所述催化剂床层(16)的下方活动安装有支撑板(17)，所述支撑板(17)的左侧固定安装有弹簧(18)，所述温度计(7)的右端固定安装有密封套(20)。

2.根据权利要求1所述的一种氨还原反应器的气体除杂装置，其特征在于：所述连接管(12)的一端贯穿于挡板(3)，所述连接管(12)的另一端贯穿于除氨罐(11)的左表面，所述出气管(10)的一端贯穿于除氨罐(11)的右表面，所述出气管(10)的另一端贯穿于器身(2)的右表面，所述石蕊棒(8)贯穿于出气管(10)的上表面。

3.根据权利要求1所述的一种氨还原反应器的气体除杂装置，其特征在于：所述固定架(15)共设置有两组，两组固定架(15)均固定安装在器身(2)的内部，每组固定架(15)上均活动安装有一组催化剂床层(16)，每组固定架(15)的内部均开设有一组冷却槽(14)，所述水管(13)共设置有四组，四组水管(13)均匀分布在冷却槽(14)的左右两端。

4.根据权利要求1所述的一种氨还原反应器的气体除杂装置，其特征在于：所述催化剂床层(16)共设置有两组，每组催化剂床层(16)的下方均活动安装有一组支撑板(17)，所述支撑板(17)与固定架(15)之间通过弹簧(18)活动连接。

5.根据权利要求1所述的一种氨还原反应器的气体除杂装置，其特征在于：所述器身(2)的内壁开设有收纳槽(19)，所述器身(2)与温度计(7)之间通过收纳槽(19)和密封套(20)密封连接。

6.根据权利要求1所述的一种氨还原反应器的气体除杂装置，其特征在于：所述第一进气管(4)固定安装在两组催化剂床层(16)的中间位置处，所述支撑腿(1)共设置有三组，三组支撑腿(1)均匀分布在器身(2)的下方。