[实用新型]碳化硅结型场效应管有效
申请号: | 202022648802.7 | 申请日: | 2020-11-17 |
公开(公告)号: | CN213988892U | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 张梓豪 | 申请(专利权)人: | 派恩杰半导体(杭州)有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/08;H01L29/808 |
代理公司: | 北京知夏律师事务所 11970 | 代理人: | 孙海龙 |
地址: | 311215 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 碳化硅 场效应 | ||
1.一种碳化硅结型场效应管,其特征在于,
所述碳化硅结型场效应管包括碳化硅衬底(101)、设置在所述碳化硅衬底(101)上的碳化硅外延层(102)、阻断注入区(103)、设置在所述碳化硅外延层(102)的左右两侧的两个栅极注入区(104)和两个源极注入区(105)、以及栅极金属电极(107)和源极金属电极(106),
所述栅极注入区(104)在正向截面为L型,包括竖直边和垂直边,在侧向沿整个碳化硅外延层(102)延伸,所述两个栅极注入区(104)的L型截面的竖直边相背对;
所述源极注入区(105)设置在对应的所述栅极注入区(104)的L型截面的横边上,所述源极注入区(105)沿整个碳化硅外延层(102)的侧向延伸,
所述阻断注入区(103)与所述两个栅极注入区(104)的L型截面的竖直边分别通过第一连通柱(110)相连接。
2.根据权利要求1所述的碳化硅结型场效应管,其特征在于,所述第一连通柱(110)为矩形柱,其横向的宽度与所述栅极注入区的所述竖直边的宽度一致,其侧向的宽度比所述竖直边的宽度窄。
3.根据权利要求1所述的碳化硅结型场效应管,其特征在于,所述碳化硅结型场效应管还包括绝缘层(111),所述绝缘层(111)使得所述源极金属电极(106)和所述栅极金属电极(107)之间实现电性能隔离。
4.根据权利要求1所述的碳化硅结型场效应管,其特征在于,所述碳化硅结型场效应管还包括第二连通柱(109),所述第二连通柱(109)用来连通所述源极金属电极(106)和所述源极注入区(105),所述第二连通柱(109)的横向宽度窄于所述源极注入区(105)的横向宽度,所述第二连通柱(109)的侧向宽度窄于所述源极注入区(105)的侧向宽度,所述第二连通柱(109)设置在所述源极注入区(105)的远离栅极注入区(104)的所述竖直边的位置。
5.根据权利要求4所述的碳化硅结型场效应管,其特征在于,所述第一连通柱(110)的横向宽度大于所述第二连通柱(109)的横向宽度。
6.根据权利要求5所述的碳化硅结型场效应管,其特征在于,所述栅极注入区(104)的厚度大于所述源极注入区(105)的厚度。
7.根据权利要求1所述的碳化硅结型场效应管,其特征在于,所述竖直边的高度被设置为使得可以通过改变所述栅极注入区(104)的掺杂浓度而在未通电的情况下,所述栅极注入区(104)的耗尽区和所述阻断注入区(103)的耗尽区之间能够形成沟道。
8.根据权利要求1或7所述的碳化硅结型场效应管,其特征在于,所述竖直边的高度被设置为使得可以通过改变所述栅极注入区(104)的掺杂浓度从而使在未通电的情况下所述栅极注入区(104)的耗尽区和所述阻断注入区(103)的耗尽区之间不形成沟道。
9.根据权利要求4所述的碳化硅结型场效应管,其特征在于,所述第二连通柱(109)和所述源极注入区(105)的掺杂类型为第一导电类型,所述第一连通柱(110)、所述阻断注入区(103)和所述栅极注入区(104)的掺杂类型为第二导电类型,所述碳化硅衬底(101)和碳化硅外延层(102)的掺杂类型为第一导电类型。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于派恩杰半导体(杭州)有限公司,未经派恩杰半导体(杭州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022648802.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类