[实用新型]离子源清洁装置

说明书

本实用新型公开了一种离子源清洁装置，包括安装单元，具有一上安装面和一下安装面；弹性清洁单元，设置在安装单元的上安装面上；以及连接单元，使下安装面紧贴在质谱仪的靶板安装槽内；其中，当离子源清洁装置移动至质谱仪的离子源下方时，弹性清洁单元的上表面抵在离子源的下表面并擦拭堆积在离子源上的残留离子。本实用新型的离子源清洁装置可卡装在靶板安装结构的靶板安装槽内，利用质谱仪的真空腔室内的既有结构（即XY移动平台）实现离子源清洁装置的水平往返移动，在水平往返移动时弹性清洁单元可反复擦拭离子源下部的电极，实现电极的清洁，整个清洁过程在可在真空腔室的原有的负压环境中进行，无需将真空腔室恢复至常压，缩短了清洁时间。

技术领域

本实用新型涉及质谱仪离子源清洁技术，尤其是涉及一种离子源清洁装置。

背景技术

基质辅助激光解析离子源飞行时间质谱仪（MALDI-TOF MS）是一种常用的软电离质谱仪。质谱仪的离子源通常安装在真空腔室内，真空腔室具有一舱门，通过舱门处理后的靶板卡装在真空腔室内靶板定位结构的靶板安装槽内，然后利用真空腔室内的XY移动平台带动靶板水平往返移动至离子源下方，离子源电极产生的电场使待测物产生的离子碎片加速飞入质量分析器。

在质谱仪运行中，生物分子电离后的少数离子容易残留在离子源上；在质谱仪长期运行中，这些残留离子堆积在离子源电极表面形成一层绝缘层，这些堆积的离子往往靠近离子源通往质量分析器的孔洞附近，由于这些离子的不均匀堆积将会影响电极产生的电场，使电场扭曲，影响离子的正常分离，从而影响质谱仪的灵敏度和分辨率。故，为保证打样精度，需要对质谱仪的离子源进行定期清洁。

现有的离子源清洁方式是先将真空腔室的负压卸掉，然后再将离子源取出进行清洁工作。该清洁方式虽然能够实现离子源的清洁，但是却存在较多的问题：

首先，由于质谱仪属于高精密仪器，该清洁方式对工作人员的专业技术水平要求极高，需要专业售后技术人员到现场拆除清洁，等待时间较长，影响样品的鉴定效率；且离子源重新安装后需要对仪器进行调试以确保清洁后的离子源电极能够正常工作，调试工作量大；

其次，飞行时间质谱仪对真空度要求极高，其整个真空腔室需要持续抽真空5h以上才能达到工作真空度（约为10^-5mbar），使得整个清洁过程耗时较长，且清洁完成后需要对质谱仪重新抽真空，停机时间较长，严重影响检测效率。

发明内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种离子源清洁装置，无需将质谱仪的离子源取出即可实现离子源的清洁，提高了清洁效率，还降低了对清洁人员的要求。

为实现上述目的，本实用新型采取下述技术方案：

本实用新型所述的离子源清洁装置，包括

安装单元，具有一上安装面和一下安装面；

弹性清洁单元，设置在所述安装单元的所述上安装面上；以及

连接单元，使所述下安装面紧贴在质谱仪的靶板安装槽内；

其中，当所述离子源清洁装置移动至质谱仪的离子源下方时，所述弹性清洁单元的上表面抵在所述离子源的下表面并擦拭堆积在离子源上的残留离子。

在本实用新型的一个优选实施方式中，所述下安装面的中部具有一凹槽，所述连接单元为嵌设在所述凹槽内的磁铁块。

在本实用新型的一个优选实施方式中，所述安装单元上安装面上具有一凸起部，与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元擦拭所述质谱仪的离子源下表面。

在本实用新型的其中一个优选实施方式中，与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元上表面具有呈条状结构的凸条，所述凸条的长度与清洁擦拭方向垂直。

在本实用新型的另一个优选实施方式中，与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元上表面具有呈网状结构的凸楞，以便于擦拭离子源。