[实用新型]砷喷射室装置及分子束外延设备

权利要求书

1.一种砷喷射室装置，其特征在于，设置于分子束外延设备，包括：

砷真空腔，用于对所述砷真空腔内的单质砷加热，以得到四砷分子；

热裂解器，用于对所述热裂解器内的四砷分子热裂解处理，以获得砷分子束；

控制阀，所述控制阀的输入端与所述砷真空腔的第一输出端连接，所述控制阀的输出端与所述热裂解器的输入端连接，所述控制阀用于调节进入所述热裂解器内的四砷分子的流量；

砷液化腔，与所述砷真空腔的第二输出端连接，用于液化未反应的所述四砷分子和所述单质砷，以沉积在所述砷液化腔的底部。

2.根据权利要求1所述的砷喷射室装置，其特征在于，所述控制阀包括安全阀、电磁阀或调节阀中任意一种。

3.根据权利要求1所述的砷喷射室装置，其特征在于，所述控制阀为多个。

4.根据权利要求1～3任一项所述的砷喷射室装置，其特征在于，所述砷真空腔包括加热器，所述加热器设置于所述砷真空腔的腔内壁；所述热裂解器包括裂解加热器，所述裂解加热器设置于所述热裂解器的内壁。

5.根据权利要求1～3任一项所述的砷喷射室装置，其特征在于，还包括：

第一开关阀，所述第一开关阀的输出端与所述砷真空腔的输入端口连接，用于控制所述单质砷的投入量。

6.根据权利要求1～3任一项所述的砷喷射室装置，其特征在于，还包括：

自加热开关阀，所述自加热开关阀的输入端与所述热裂解器的输出端连接，所述自加热开关阀的输出端与所述分子束外延设备的内部连通，用于将所述砷分子束投入进所述分子束外延设备，以避免砷分子束沉积在所述自加热开关阀上。

7.根据权利要求1～3任一项所述的砷喷射室装置，其特征在于，还包括：

第二开关阀，用于连接在所述砷真空腔的第二输出端和所述砷液化腔之间。

8.一种分子束外延设备，其特征在于，包括如权利要求1～7任意一项所述的砷喷射室装置。