[实用新型]一种核磁头部立体摆位框架

权利要求书

1.一种核磁头部立体摆位框架,包括摆位框架(1)、限位架(2)以及构建平台(3)，其特征在于：所述摆位框架(1)两端设有防护边框(4)，所述防护边框(4)内部设有减震机构(5)，所述摆位框架(1)内部顶端设有扫描机构(6)，所述扫描机构(6)内部设有定位系统(7)，所述限位架(2)两端连接有调节杆(8)，所述调节杆(8)一端连接有调节螺栓(9)，所述限位架(2)内部顶端设有面膜(10)，所述面膜(10)外表面设有定位触点(11)，所述限位架(2)内部底端设有头枕(12)，所述限位架(2)底端设有滚轮(13)，所述滚轮(13)底端设有底座(14)，所述构建平台(3)内部设有构建系统(15)，所述构建系统(15)内端设有分析模块(16)、构建模块(17)和控制模块(18)。

2.根据权利要求1所述的一种核磁头部立体摆位框架，其特征在于：所述调节杆(8)外端连接有调节槽。

3.根据权利要求1所述的一种核磁头部立体摆位框架，其特征在于：所述扫描机构(6)通过连接线缆和构建平台(3)电性连接。

4.根据权利要求1所述的一种核磁头部立体摆位框架，其特征在于：所述构建平台(3)顶端连接有显示器和操作键盘。

5.根据权利要求1所述的一种核磁头部立体摆位框架，其特征在于：所述定位触点(11)具体设有若干组，所述定位触点(11)用以进行辅助定位的作用。

6.根据权利要求1所述的一种核磁头部立体摆位框架，其特征在于：所述定位系统(7)内部设有X轴定位模块、Y轴定位模块以及Z轴定位模块。