[实用新型]容纳腔及包括其的晶圆电镀系统

权利要求书

1.一种容纳腔，具有进液口和出液口，其特征在于，所述容纳腔的内部被分隔形成第一容纳单元和第二容纳单元，所述第一容纳单元和所述第二容纳单元分别与外界连通，所述进液口设置在所述第一容纳单元内，所述出液口设置在所述第二容纳单元内；

所述容纳腔包括第一通道和过滤单元，所述第一容纳单元内的电镀液和所述第二容纳单元内的电镀液通过所述第一通道连通，所述过滤单元与所述第一通道对应设置，所述过滤单元能够过滤流经所述第一通道的电镀液中的气泡。

2.如权利要求1所述的容纳腔，其特征在于，所述容纳腔还包括第一挡板，所述第一挡板沿所述容纳腔的高度方向设置在所述容纳腔的腔室内部，以分隔形成所述第一容纳单元和第二容纳单元，所述第一通道设置在所述第一挡板上。

3.如权利要求2所述的容纳腔，其特征在于，所述过滤单元覆盖在所述第一通道位于所述第一容纳单元或所述第二容纳单元的其中一个端口上。

4.如权利要求2所述的容纳腔，其特征在于，所述第一挡板与所述腔室可拆卸连接，所述第一挡板可沿所述容纳腔的高度方向相对所述腔室移出。

5.如权利要求1所述的容纳腔，其特征在于，所述第一通道设置在所述第一容纳单元内的电镀液的液面的下方。

6.如权利要求1所述的容纳腔，其特征在于，所述过滤单元的材料为聚四氯乙烯亲水膜。

7.如权利要求1所述的容纳腔，其特征在于，所述容纳腔还包括输液管，所述输液管沿所述容纳腔的高度方向设置，所述输液管的出口形成所述进液口，所述输液管的出口朝上或朝下设置。

8.如权利要求7所述的容纳腔，其特征在于，所述输液管的出口与所述第一容纳单元内的电镀液的液面持平或没入所述第一容纳单元内的电镀液的液面。

9.如权利要求7所述的容纳腔，其特征在于，所述输液管的出口位于所述第一容纳单元内的电镀液的液面的上方。

10.如权利要求8或9所述的容纳腔，其特征在于，所述输液管的出口与所述第一容纳单元内的电镀液的液面之间的距离为0-5mm。

11.如权利要求7所述的容纳腔，其特征在于，所述输液管的出口端为U型管，所述U型管的弯曲处位于所述第一容纳单元内的电镀液的液面的下方。

12.如权利要求1所述的容纳腔，其特征在于，所述容纳腔还包括第二通道，所述第一容纳单元中的电镀液和所述第二容纳单元中的电镀液还能够通过第二通道连通，所述第二通道位于所述第一通道的下方。

13.如权利要求12所述的容纳腔，其特征在于，所述容纳腔还包括第二挡板，所述第二挡板设置在所述第二容纳单元内并环绕所述出液口设置，所述第二挡板的下端固定在所述第二容纳单元的底面上，所述第二挡板的上端面位于所述出液口的上方，所述第二挡板能够控制所述第二容纳单元内的电镀液从所述第二挡板的上方流入所述出液口。

14.如权利要求13所述的容纳腔，其特征在于，所述第二挡板的高度可调节，所述第二挡板的上端面位于所述第二容纳单元内的电镀液的液面的下方。

15.一种晶圆电镀系统，其特征在于，所述晶圆电镀系统包括如权利要求1-14中任意一项所述的容纳腔。