[实用新型]一种陶瓷材料的热处理装置有效

专利信息
申请号: 202022727593.5 申请日: 2020-11-23
公开(公告)号: CN213708160U 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 黄尚成 申请(专利权)人: 陕西理工大学
主分类号: C04B41/80 分类号: C04B41/80
代理公司: 西安研创天下知识产权代理事务所(普通合伙) 61239 代理人: 赵增侠
地址: 723100 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷材料 热处理 装置
【说明书】:

本实用新型公开了一种陶瓷材料的热处理装置,包括箱体、门体和支架,所述箱体内设有隔板,所述隔板将所述箱体内空间分成上腔和下腔,所述上腔的对应的箱体侧壁上设有冷却腔,所述箱体的顶部安装有冷却箱,所述冷却箱与所述冷却腔之间连通;所述下腔对应的箱体内侧壁上安装有多个加热棒,所述下腔内设有可升降旋转的放置架,所述隔板的中心设有与所述放置架相匹配的中心通孔;所述放置架的底部外周设有凸圈,所述隔板的顶部和底部分别设有一号凹圈和二号凹圈,所述凸圈与所述二号凹圈相匹配,所述一号凹圈处可拆卸设有密封盖板。本实用新型能够使材料内部各个方向受热和受冷更加均匀,避免冷媒对陶瓷材料的冲击,从而增加材料的理化性质的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷材料技术领域,尤其涉及一种陶瓷材料的热处理装置。

背景技术

构成曝光装置的光学系统所使用的合成石英玻璃或氟化钙、氟化钡等光学陶瓷材料随着曝光装置的光源的短波长化不断发展,而要求非常高的透光率。这种需要高透光率的光学陶瓷材料是使用经化学合成的高纯度的原料制造而来。但是,在制备光学陶瓷材料时,其内部残留的来源于制造热历程的各种应力需要尽可能的降低,因此需要进行称之为退火处理的热处理,使残留应力下降,折射率的均匀性提升,并且使双折射降低。

但现有技术中的退火处理步骤中,因为冷媒对光学陶瓷材料的冲击,常常会导致材料退火不均一,造成光学陶瓷材料的理化性质不稳定、不均一,影响产品折射率的提升。

发明内容

针对上述存在的问题,本实用新型旨在提供一种陶瓷材料的热处理装置,将材料的加热和冷却分离开,且在加热的过程中放置架保持旋转状态,能够使材料内部各个方向加热更加均匀,从而增加材料的理化性质的稳定性。

为了实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案如下:

一种陶瓷材料的热处理装置,包括箱体、门体和支架,所述箱体安装在所述支架上,所述箱体的前侧壁下方设有门体,所述箱体内设有隔板,所述隔板将所述箱体内空间分成上腔和下腔,其特征在于:所述上腔对应的箱体侧壁上设有冷却腔,所述箱体的顶部安装有冷却箱,所述冷却箱与所述冷却腔之间通过冷媒进管连通,所述冷却腔对应的箱体侧壁上还设有冷却出口;

所述下腔对应的箱体内侧壁上安装有多个加热棒,所述下腔内设有可升降旋转的放置架,所述隔板的中心设有与所述放置架相匹配的中心通孔;所述放置架的底部外周设有凸圈,所述隔板的顶部和底部分别设有一号凹圈和二号凹圈,所述凸圈与所述二号凹圈相匹配,所述一号凹圈处可拆卸设有密封盖板。

进一步的,所述支架上安装有驱动电机,所述驱动电机的输出轴上固设有旋转伸缩杆,所述旋转伸缩杆的顶部贯穿所述箱体的底部,且与所述放置架的底部固定连接;所述箱体的底部还安装有两个升降伸缩杆,两个所述升降伸缩杆对称设置在所述旋转伸缩杆的两侧,且两个所述升降伸缩杆与所述放置架转动连接。

进一步的,所述放置架的底面设有一圈T型滑槽,每个所述升降伸缩杆的顶部均固设有与所述T型滑槽相匹配的T型滑块。

进一步的,所述放置架的顶部设有多个支撑杆,所述密封盖板的底面设有多个与所述支撑杆相对应的限位槽。

进一步的,所述下腔对应的箱体内侧壁上还设有温度传感器,所述下腔对应的箱体外侧壁上设有控制器,所述温度传感器与所述控制器连接,所述控制器还与所述加热棒连接。

进一步的,所述密封盖板和所述放置架、凸圈均采用隔热材料。

本实用新型的有益效果是:与现有技术相比,本实用新型的改进之处在于,

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