[实用新型]一种用于智能手机的金属化聚合物薄膜电容器有效

专利信息
申请号: 202022751070.4 申请日: 2020-11-25
公开(公告)号: CN213519621U 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 徐洪波;求忠江;庞宏伟;杨铖 申请(专利权)人: 深圳市一科时代科技发展有限公司
主分类号: H01G4/224 分类号: H01G4/224;H01G4/33;H01G4/228;H01G4/232;H01G4/14
代理公司: 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙) 44276 代理人: 张朝阳;田艺儿
地址: 518000 广东省深圳市南山区桃源*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 智能手机 金属化 聚合物 薄膜 电容器
【说明书】:

实用新型公开了一种用于智能手机的金属化聚合物薄膜电容器,包括电容器本体、引线和外壳层,所述电容器本体的外表面设置有外壳层,所述电容器本体内左端设置有左端子,且电容器本体内右端设置有右端子,所述金属接触层与相邻的金属接触层之间设置有外保护膜,且外保护膜的上表面通过银粘合剂层粘合有金属箔衬底,并且金属箔衬底的上表面设置有中间保护膜。该用于智能手机的金属化聚合物薄膜电容器,结构设置合理,外保护膜、金属箔衬底和中间保护膜之间粘合更加紧密,不易松散,并且结构更加严密牢固,使用更长久,并且占用空间比较小,同时便于统一生产,有助于提高其生产效率。

技术领域

本实用新型涉及电容器相关技术领域,具体为一种用于智能手机的金属化聚合物薄膜电容器。

背景技术

电力电子电路DC-Link电容用于三相桥式整流或两相整流输出负载有突变的应用中,防止因负载的突变造成直流母线的寄生电感产生感生电势而导致的直流母线电压大幅度突变,要求产品能满足直线电压波动,还要吸收来自直流母线电压或负载的纹波电流,因此需要能承受高纹波电流的能力。

但是,现有铝电解电容自身可承受的纹波电流值较低,而需要多个铝电解电容的串联或并联才能满足所需要的纹波电流要求,但铝电解电容体积大,在空间上已不能容许,且应用环境决定了铝电解电容的温度与寿命不能满足要求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于智能手机的金属化聚合物薄膜电容器,以解决上述背景技术中提出的铝电解电容自身可承受的纹波电流值较低,而需要多个铝电解电容的串联或并联才能满足所需要的纹波电流要求,但铝电解电容体积大,在空间上已不能容许,且应用环境决定了铝电解电容的温度与寿命不能满足要求的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于智能手机的金属化聚合物薄膜电容器,包括电容器本体、引线和外壳层,所述电容器本体的外表面设置有外壳层,且电容器本体的前侧面左端和右端均设置有引线,所述引线与电容器本体的连接口处设置有金属密封面,所述电容器本体内左端设置有左端子,且电容器本体内右端设置有右端子,并且左端子和右端子的内侧面均设置有一组金属接触层。

优选的,所述金属接触层与相邻的金属接触层之间设置有外保护膜,且外保护膜的上表面通过银粘合剂层粘合有金属箔衬底,并且金属箔衬底的上表面设置有中间保护膜,且外保护膜、金属箔衬底和中间保护膜叠合在一起。

优选的,所述外保护膜和中间保护膜的厚度设置一致,且外保护膜选用聚氨酯薄膜,并且中间保护膜选用真空金属沉淀薄膜。

优选的,所述金属接触层采用金属表面镀锌复合改性层,且外保护膜和中间保护膜的两端头分别紧密固定在两边的金属接触层上。

优选的,所述右端子和左端子均采用铜材质,且右端子和左端子的外表面均涂布有一层防氧化层。

优选的,所述外壳层采用环氧树脂材质,外壳层的厚度设置为0.6-1.2mm。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该用于智能手机的金属化聚合物薄膜电容器,结构设置合理,外保护膜、金属箔衬底和中间保护膜之间粘合更加紧密,不易松散,并且结构更加严密牢固,使用更长久,并且占用空间比较小,同时便于统一生产,有助于提高其生产效率;

1、在电容器本体的前侧面左右两端均设设置有引线,方便电性连接使用,并且电容器本体采用的是矩形体结构,采用规则的矩形体结构方便安装在手机内,便于统一生产,有助于提高其生产效率;

2、在电容器本体内左右两端分别设置有左端子和右端子,左端子和右端子的内侧面都设置有金属接触层,方便更好保护内部结构;

3、同时在两组金属接触层之间叠合有外保护膜、金属箔衬底和中间保护膜,并且在外保护膜和中间保护膜之间涂布有银粘合剂层,使其外保护膜、金属箔衬底和中间保护膜之间粘合更加紧密,不易松散,提高本身质量,内部结构设置简便合理。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市一科时代科技发展有限公司,未经深圳市一科时代科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022751070.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top