[实用新型]胚体上釉装置有效

专利信息
申请号: 202022764029.0 申请日: 2020-11-25
公开(公告)号: CN214266048U 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 刘玉柱 申请(专利权)人: 刘玉柱
主分类号: B28B11/04 分类号: B28B11/04;B28B17/00
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 邓鸣
地址: 255200 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 上釉 装置
【权利要求书】:

1.一种胚体上釉装置,其特征在于包括:

支撑台(1);

固定于支撑台(1)底部的釉料搅拌机构;

固定于支撑台(1)上的浸釉机构;

以及连接所述浸釉机构与釉料搅拌机构的釉料运输机构;

所述浸釉机构包括,

釉槽(2),固定于支撑台(1)上;

设置于釉槽(2)内的定位盘(3);

以及固定于定位盘(3)底部的丝杠(4);

所述丝杠(4)一端贯穿釉槽(2)底部,所述丝杠(4)通过螺纹与釉槽(2)转动连接,所述定位盘(3)上均布开孔(5)。

2.根据权利要求1所述的胚体上釉装置,其特征在于:所述釉料运输机构包括,

循环泵(6),其进料端通过管路与釉料搅拌机构连接;

三通阀(7),其第一端通过管路与循环泵出料端连接;

上釉管(8),其一端与三通阀第二端连接,另一端与釉槽(2)连通;

放釉管(9),其一端与三通阀第三端连接。

3.根据权利要求2所述的胚体上釉装置,其特征在于:所述釉料搅拌机构包括,

釉箱(10);

以及固定于釉箱(10)上部的搅拌器(11);

所述循环泵进料端通过管路与釉箱(10)连接。

4.根据权利要求3所述的胚体上釉装置,其特征在于:还包括设置于釉槽(2)外侧的溢流槽(12),所述溢流槽(12)通过回釉管(13)与釉箱(10)连通。

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