[实用新型]真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机

权利要求书

1.真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，包括箱体结构（1），其特征在于：所述箱体结构（1）的上方安装有镀膜结构（4），所述镀膜结构（4）的上方设置有接入降温器（13），所述接入降温器（13）的一侧安装有滑轨（15），所述箱体结构（1）的前端面设置有检测门（3），所述镀膜结构（4）的前端安装有滑移真空门（5），所述箱体结构（1）的一侧设置有连接通道（6），所述连接通道（6）的一侧安装有主控结构（7），所述主控结构（7）的上方设置有调节结构（11），所述调节结构（11）的一侧安装有警报器（12），所述箱体结构（1）的内部设置有减震弹簧结构（16），所述减震弹簧结构（16）的上方安装有真空抽气器（17），所述真空抽气器（17）的一端设置有管道（18），所述镀膜结构（4）的内部安装有工体转架（20），所述工体转架（20）的一侧设置有弧靶结构（24），所述弧靶结构（24）的一侧安装有真空室（19），所述真空室（19）的内壁设置有锡箔绝缘层（21），所述真空室（19）的一侧安装有磁控溅射装置（10），所述警报器（12）的一侧设置有安装结构（8）。

2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述箱体结构（1）的底部安装有支撑架（2），且支撑架（2）与箱体结构（1）的底部固定连接。

3.根据权利要求1所述的真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述镀膜结构（4）的外壁设置有弧源装置（14），且弧源装置（14）与镀膜结构（4）的外壁固定连接。

4.根据权利要求1所述的真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述主控结构（7）的前端面安装有指示灯（9），且指示灯（9）与主控结构（7）的前端固定连接。

5.根据权利要求1所述的真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述管道（18）的一侧设置有密封层（22），且密封层（22）与管道（18）的一侧固定连接。

6.根据权利要求1所述的真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述工体转架（20）的一端安装有挂置板（23），且挂置板（23）与工体转架（20）的一端固定连接。