[实用新型]一种混流装置有效

专利信息
申请号: 202022808803.3 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN213520051U 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 罗小鹏;陈峰;钱鑫;崔春然;唐德平 申请(专利权)人: 合肥科威尔电源系统股份有限公司
主分类号: H01M8/04014 分类号: H01M8/04014;H01M8/04119;H01M8/0245;H01M8/0247;H01M8/1004
代理公司: 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 代理人: 杜丹丹
地址: 230088 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 装置
【权利要求书】:

1.一种混流装置,其特征在于:包括多组混流结构,每组混流装置包括多组混流结构,所述混流结构叠加设置,所述混流结构包括混流层、传质层和缓冲层,所述混流层、传质层和缓冲层依次由下至上设置,所述混流层两端分别设置有第一进气口和第二进气口。

2.根据权利要求1所述的一种混流装置,其特征在于:所述混流层包括多根第一管道和第二管道,所述第一管道与第二管道水平间隔设置,所述第一管道均与第一进气口连通,所述第二管道均与所述第二进气口连通,所述第一管道和第二管道上分别设置有第一通孔和第二通孔,相邻之间的第一管道和第二管道上的第一通孔和第二通孔相对设置。

3.根据权利要求1所述的一种混流装置,其特征在于:所述传质层由多层金属片水平叠加组成。

4.根据权利要求3所述的一种混流装置,其特征在于:每层金属片上均匀开设有多个第三通孔。

5.根据权利要求3所述的一种混流装置,其特征在于:所述金属片为褶状波浪型。

6.根据权利要求1所述的一种混流装置,其特征在于:所述缓冲层为空腔层。

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