[实用新型]等离子体处理晶圆用载具及晶圆处理设备有效
| 申请号： | 202022822457.4 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN213752622U | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 孙虎 | 申请（专利权）人： | 上海诺硕电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 201508 上海市金山*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 晶圆用载具 设备 | ||
1.一种等离子体处理晶圆用载具，所述载具包括托盘和边缘环，所述托盘放置晶圆，其特征在于，所述边缘环绕所述托盘周向设置，所述边缘环设有用于排出副产物的排出结构，所述排出结构贯穿所述边缘环。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述排出结构包括排出孔。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述排出孔设有多个，且所述边缘环周向设置有至少一圈所述排出孔。
4.根据权利要求3所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，若干所述排出孔等间距设置于所述边缘环。
5.根据权利要求2所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述排出孔的径向长度为0.5-3mm。
6.根据权利要求2所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述排出孔的孔道由所述边缘环的内壁向所述边缘环的外壁倾斜朝所述边缘环的底端面设置。
7.根据权利要求6所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述排出孔的轴线与所述边缘环的底端面之间的夹角大于0°且小于或等于80°。
8.根据权利要求7所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，若干所述排出孔的轴线与所述边缘环的底端面之间的夹角角度相同。
9.根据权利要求1所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述边缘环的顶端面与所述边缘环的内壁面采用连续连接方式相接形成连续平滑曲面。
10.根据权利要求9所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述连续连接方式为相切连续、曲率连续、曲率变化率连续、曲率变化率的变化率连续中的任意一种。
11.根据权利要求1所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述边缘环的纵截面呈L形结构，包括第一台面和第二台面，所述第一台面的高度小于所述托盘的高度，所述第二台面的高度大于所述托盘和所述晶圆的高度之和。
12.根据权利要求11所述的等离子体处理晶圆用载具，其特征在于，所述排出结构包括相连通的内端口和外端口，所述内端口设置于所述边缘环的内壁，且所述内端口的设置位置在所述第一台面和所述晶圆的顶端面之间，所述外端口设置于所述边缘环的外壁，且所述外端口的设置位置在所述边缘环的底端面和所述晶圆的顶端面之间。
13.一种晶圆处理设备，其特征在于，包括权利要求1-12任一项所述的等离子体处理晶圆用载具。
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