[实用新型]料理机

权利要求书

1.一种料理机，其特征在于，所述料理机包括：

搅拌组件(3)，包括杯盖(302)和密封圈(301)，所述密封圈(301)设于所述杯盖(302)的外周侧，且所述密封圈(301)包括第一密封圈层(3011)及位于所述第一密封圈(301)下方的第二密封圈层(3012)，其中，所述第一密封圈层(3011)的外径大于所述第二密封圈层(3012)的外径；

搅拌杯组件(2)，包括杯体(201)，所述杯体(201)设有用于容纳食材的处理空间(200)；

主机(1)，设有搅拌杯安装空间(101)，所述搅拌杯组件(2)设于所述搅拌杯安装空间(101)，所述搅拌组件(3)设于所述主机(1)之上且被配置为可沿所述主机(1)上下移动，以使在所述搅拌组件(3)沿所述主机(1)上下移动时，所述杯盖(302)的至少部分可盖于所述杯体(201)内，所述密封圈(301)用于密封所述杯盖(302)与所述杯体(201)之间的间隙。

2.如权利要求1所述的料理机，其特征在于，所述密封圈(301)包括环状的基部(3013)，所述基部(3013)套设于所述杯盖(302)外周侧，所述第一密封圈层(3011)设于所述基部(3013)的上端并自所述基部(3013)的上端向外延伸，所述第二密封圈层(3012)设于所述基部(3013)的下端并自所述基部(3013)的下端向外延伸。

3.如权利要求1所述的料理机，其特征在于，所述第一密封圈层(3011)与所述杯体(201)的内壁之间过盈配合，所述第二密封圈层(3012)与所述杯体(201)的内壁之间过盈配合；其中，所述第一密封圈层(3011)与所述杯体(201)的内壁之间的过盈配合量大于所述第二密封圈层(3012)与所述杯体(201)的内壁之间的过盈配合量。

4.如权利要求1所述的料理机，其特征在于，所述第一密封圈层(3011)与所述杯体(201)的内壁之间过盈配合，所述第一密封圈层(3011)与所述杯体(201)的内壁之间的过盈配合量为0.5mm-3mm。

5.如权利要求1所述的料理机，其特征在于，所述第二密封圈层(3012)与所述杯体(201)的内壁之间过盈配合，所述第二密封圈层(3012)与所述杯体(201)的内壁之间的过盈配合量为0.5mm-1.5mm。

6.如权利要求1所述的料理机，其特征在于，所述杯盖(302)外周侧环设有第一挡壁(3021)及位于第一挡壁(3021)下方的第二挡壁(3022)，所述第一挡壁(3021)、杯盖(302)的外周侧及第二挡壁(3022)共同形成密封圈安装槽(3023)，所述密封圈(301)安装于所述密封圈安装槽(3023)。

7.如权利要求6所述的料理机，其特征在于，所述第一挡壁(3021)的外径大于所述第二挡壁(3022)的外径；或，

所述第二挡壁(3022)与所述杯体(201)内壁之间的距离大于所述第一挡壁(3021)与所述杯体(201)内壁之间的距离。

8.如权利要求1所述的料理机，其特征在于，所述搅拌组件(3)包括搅拌刀(303)，所述搅拌刀(303)在所述搅拌组件(3)沿所述主机(1)上下移动时，可伸入所述处理空间(200)或移出所述处理空间(200)。

9.如权利要求1所述的料理机，其特征在于，所述搅拌组件(3)可拆卸的设于所述主机(1)。

10.如权利要求1所述的料理机，其特征在于，所述主机(1)包括驱动装置(15)，所述驱动装置(15)与所述搅拌组件(3)驱动连接，以驱动所述搅拌组件(3)沿所述主机(1)上下移动。