[实用新型]气体处理装置、用于制膜的干程设备和制膜设备

权利要求书

1.一种气体处理装置，其特征在于，包括加湿部(20)、干燥部、缓冲部(40)和温度控制部(50)，所述加湿部(20)用于加湿气体，所述干燥部用于干燥气体，所述加湿部(20)的出气口和所述干燥部的出气口均与所述缓冲部(40)连通；所述缓冲部(40)的出气口与所述温度控制部(50)的进气口连通，所述温度控制部(50)用于控制混合气体的温度。

2.根据权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，所述气体处理装置还包括空气净化器(10)，所述空气净化器(10)的出气口与所述加湿部(20)的进气口和所述干燥部的进气口均连通。

3.根据权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，所述加湿部(20)包括第一换热器(21)、水箱(22)、雾化器(23)和加热器(24)，所述第一换热器(21)的出气口与所述水箱(22)连通，所述雾化器(23)和所述加热器(24)均设置在所述水箱(22)内。

4.根据权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，所述干燥部包括气水分离器(31)。

5.根据权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，所述缓冲部(40)包括混合室、第二换热器和循环泵，所述第二换热器的出气口与所述混合室连通，所述循环泵设置在所述混合室内。

6.根据权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，所述加湿部(20)的出气口与所述缓冲部(40)之间设置有第一流量泵(61)，所述干燥部的出气口与所述缓冲部(40)之间设置有第二流量泵(62)。

7.一种用于制膜的干程设备，其特征在于，包括气体处理装置和干程罩(100)，所述气体处理装置为权利要求1至6中任一项所述的气体处理装置，所述气体处理装置的出气口与所述干程罩(100)的进气口连通。

8.根据权利要求7所述的干程设备，其特征在于，所述干程罩(100)包括罩体(110)和至少一根排气管(120)，所述罩体(110)内形成干程腔，所述排气管(120)设置在所述干程腔内，所述排气管(120)的管壁上设置有多个气孔(121)，位于所述排气管(120)的轴向中部的所述气孔(121)的孔径小于位于所述排气管(120)的轴向端部的所述气孔(121)的孔径。

9.根据权利要求8所述的干程设备，其特征在于，所述排气管(120)的两端分别固定在所述罩体(110)的内壁上，所述排气管(120)的两端均设置有阀门(122)，所述阀门(122)能够调节开度。

10.一种制膜设备，其特征在于，包括驱动部、涂膜部、干程设备和反应部，所述干程设备为权利要求7至9中任一项所述的干程设备，所述驱动部用于驱动基材依次通过涂膜部、干程设备和反应部，所述涂膜部用于在所述基材上设置成膜原料，所述干程设备对所述基材上的成膜原料进行预处理，使得成膜原料发生溶剂蒸发相转化和蒸汽诱导相转化。