[实用新型]一种靶体磁铁防腐保护结构

说明书

本实用新型公开了一种靶体磁铁防腐保护结构，包括：靶管、轭铁、磁铁、第一端盖、第二端盖和套管；轭铁限定出第一水流通道，磁铁固定安装在轭铁的外周壁上；轭铁的轴向一端设有第一端盖，第一端盖上设有进水孔，进水孔与第一水流通道连通；轭铁的轴向另一端设有第二端盖，第二端盖上设有出水孔，出水孔与第一水流通道连通；套管同轴外套在轭铁上，磁铁位于套筒内且与套筒的内周壁抵接，套管的轴向一端与第一端盖密封连接，套管的轴向另一端与第二端盖密封连接，以密封磁铁，套管的外周壁与靶管的内周壁间隔开以限定出第二水流通道，第二水流通道与出水孔连通。设置的套管可避免冷却水与磁铁直接接触而腐蚀磁铁。

技术领域

本实用新型涉及真空溅射镀膜领域，尤其是涉及一种靶体磁铁防腐保护结构。

背景技术

目前真空溅射镀膜生产的设备中大多采用平面溅射阴极靶材这种方式，其工作原理是：将需镀膜的基材送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定高纯的氩气以及一些需要的反应气体(例如氧气、氮气、乙炔等)；当靶通电后，在空间中的游离电子会在电磁场的作用下对氩气等气体进行电离，并产生辉光放电。而氩气是由氩原子组成，氩原子电离后产生氩离子，在电磁场的作用下变成高能氩离子会向阴极靶面飞去，且与靶面原子或分子进行碰撞，溅射出靶材原子或分子等粒子，并飞向基材表面形成膜层。为了增加溅射率，可通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度来实现，从而实现高速率溅射的过程，而由于大量高能氩离子碰撞靶材表面产生溅射的同时会给靶材带来大量热量，为了防止靶材变形，一般在靶材背面的靶体内进行通入冷却水进行冷却。

现有技术中的一些靶体为圆柱形结构，在这种结构形式的靶体中，磁铁通常与冷却水直接接触而被腐蚀，长时间使用后，磁铁表面会粘满污垢，并且腐蚀后磁感强度遂渐下降，此外磁铁腐蚀后底部容易剥离并被邻侧异性磁铁吸引倾倒，导至磁道紊乱，存在改进之处。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的第一个目的在于提供一种靶体磁铁防腐保护结构，便于轭铁和磁铁的拆装。

本实用新型的技术方案如下：一种靶体磁铁防腐保护结构，包括：靶管、轭铁、磁铁、第一端盖、第二端盖和套管；所述轭铁被构造成两端敞开的管状结构以限定出第一水流通道，所述磁铁固定安装在所述轭铁的外周壁上，所述磁铁为多个，多个所述磁铁间隔排布；所述轭铁的轴向一端设有所述第一端盖，所述第一端盖上设有进水孔，所述进水孔与所述第一水流通道连通；所述轭铁的轴向另一端设有所述第二端盖，所述第二端盖上设有出水孔，所述出水孔与所述第一水流通道连通；所述套管同轴外套在所述轭铁上，所述磁铁位于所述套筒内且与所述套筒的内周壁抵接，所述套管的轴向一端与所述第一端盖密封连接，所述套管的轴向另一端与所述第二端盖密封连接，以密封所述磁铁；所述轭铁安装在所述靶管内，所述套管的外周壁与所述靶管的内周壁间隔开以限定出第二水流通道，所述第二水流通道与所述出水孔连通。

进一步地，所述第一端盖与所述轭铁固定连接。

进一步地，所述第一端盖的外周壁上设有第一台阶部，所述第一台阶部沿所述第一端盖的周向延伸成圆环形，所述第一台阶部上设有第一密封圈，所述套管的轴向一端外套在所述第一台阶部上并与所述第一密封圈紧密抵接。

进一步地，所述第二端盖包括盖板和压板，所述盖板与所述轭铁固定连接，所述盖板上设有所述出水孔，所述压板设于所述盖板的远离所述轭铁的一侧并与所述盖板可拆卸相连；所述盖板的外径小于所述压板的外径，所述盖板与所述压板之间设有第二密封圈；所述套管的轴向另一端外套在所述盖板上并与所述第二密封圈紧密抵接。

进一步地，所述盖板的远离所述轭铁的一侧设有第二台阶部，所述第二台阶部沿所述盖板的周向延伸成圆环形，所述密封圈和所述压板均为圆环形，所述密封圈和所述压板外套在所述第二台阶部上。

进一步地，所述压板上设有安装孔，所述密封圈上设有避让孔，所述盖板上设有螺纹孔，螺钉依次穿过所述安装孔和所述避让孔与所述螺纹孔螺纹连接。