[实用新型]一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备

权利要求书

1.一种靶材背面固定式平面靶，其特征在于，包括：靶材、靶体、轭铁、磁铁、压板、绝缘套和屏蔽罩；

所述靶体内部限定有容纳腔，所述容纳腔的一侧敞开形成插入口，所述轭铁的前侧面固定安装有磁铁，所述轭铁通过所述插入口插入安装到所述容纳腔内，所述轭铁上设有第一水流通道，所述轭铁的外侧壁、所述磁铁与所述容纳腔的内侧壁限定出第二水流通道，所述第一水流通道与所述第二水流通道连通；

所述靶体的前侧面为平面，所述靶材为平面靶材，所述靶材设于所述靶体的前侧面，所述压板位于所述靶体外部，所述压板的前后两端分别朝向靠近所述靶体的方向折弯以形成第一弯折部和第二弯折部，所述第一弯折部勾设在所述靶材上以将所述靶体紧压在第一安装平面上，所述第二弯折部与所述靶体相连；

所述靶体的后表面安装有所述绝缘套，所述屏蔽罩罩设在所述靶体和所述压板外，所述屏蔽罩与所述绝缘套抵接，所述屏蔽罩的前侧设有缺口，所述缺口与所述靶材正对。

2.根据权利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述磁铁与所述容纳腔的前侧壁抵接，所述磁铁为多个，多个所述磁铁间隔排布，任意相邻的两个所述磁铁的磁极相反。

3.根据权利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述靶材与所述靶体之间设有石墨层。

4.根据权利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述靶材的左右两侧分别设有所述压板。

5.根据权利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述靶体的后表面的一部分向前凹陷形成避让槽，所述避让槽贯穿至所述靶体的靠近所述压板的一侧表面，所述第二弯折部设于所述避让槽内；

所述第二弯折部上设有螺纹孔，所述避让槽的前槽面设有定位孔，螺栓与螺纹孔螺纹配合并伸入所述定位孔内与所述靶体止抵。

6.根据权利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述屏蔽罩由左右两个子罩体对半拼接形成，所述绝缘套有两个，两个所述绝缘套沿左右方向间隔排布，两个所述子罩体与两个所述绝缘套一一对应抵接。

7.根据权利要求6所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述子罩体包括第一板体、第二板体和第三板体，所述第一板体设于所述第二板体的前端，所述第三板体设于所述第二板体的后端；

两个所述子罩体的第一板体在左右方向上间隔开以限定出所述缺口，两个所述子罩体的第三板体分别与对应的所述绝缘套抵接，且两个所述第三板体之间留有缝隙。

8.一种真空溅射镀膜设备，其特征在于，包括：炉体、驱动机构和根据权利要求1-7任一项所述的平面靶，所述平面靶设于所述炉体内，所述驱动机构与所述平面靶的靶体相连以驱动所述靶体转动。