[实用新型]一种基于石墨烯阵列中光学双稳态的全光开关有效

专利信息
申请号: 202022859262.7 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN213545010U 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 赵东 申请(专利权)人: 湖北科技学院
主分类号: G02F3/02 分类号: G02F3/02
代理公司: 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 代理人: 汪彩彩
地址: 437100 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 石墨 阵列 光学 双稳态 开关
【权利要求书】:

1.一种基于石墨烯阵列中光学双稳态的全光开关,其特征在于,包括相间分布的单层石墨烯(g)和电介质薄片层(A),形成结构式为(gA)Ng的周期阵列结构,所述单层石墨烯(g)嵌入相邻电介质薄片层(A)之间,所述周期阵列结构的两外侧均为单层石墨烯(g);结构式中的A为电介质薄片层,g为单层石墨烯,N为电介质薄片层(A)的数量。

2.根据权利要求1所述一种基于石墨烯阵列中光学双稳态的全光开关,其特征在于,所述电介质薄片层(A)为二氧化硅。

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