[实用新型]一种类晶体保温装置

权利要求书

1.一种类晶体保温装置，包括下炉体(1)以及设置于所述下炉体(1)内的保温层(3)，所述保温层(3)环绕所述下炉体(1)的周向设置，其特征在于，所述类晶体保温装置还包括：

定位组件(2)，设置于所述下炉体(1)内；以及

支撑组件(4)，位于所述保温层(3)下方并与所述定位组件(2)连接，所述支撑组件(4)能够由下侧支撑所述保温层(3)。

2.根据权利要求1所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述类晶体保温装置还包括：

固定件(5)，所述保温层(3)上开设有通孔(31)，所述支撑组件(4)上开设有安装孔(4121)，所述固定件(5)依次穿过所述通孔(31)和所述安装孔(4121)将所述保温层(3)固定在所述支撑组件(4)上。

3.根据权利要求2所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述支撑组件(4)包括：

支撑台(41)，所述支撑台(41)上放置有所述保温层(3)，所述固定件(5)将所述保温层(3)固定在所述支撑台(41)上；以及

支撑架(42)，分别与所述支撑台(41)和所述定位组件(2)连接。

4.根据权利要求3所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述支撑架(42)包括：

支撑柱(421)，所述支撑柱(421)的顶端与所述支撑台(41)连接，所述支撑柱(421)固定在所述定位组件(2)上；以及

第一支撑杆(422)，所述第一支撑杆(422)的两端分别与所述支撑台(41)和所述支撑柱(421)相固定。

5.根据权利要求4所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述支撑柱(421)沿轴线方向开设有定位孔(4211)，所述定位组件(2)穿设在所述定位孔(4211)中。

6.根据权利要求4所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述保温层(3)环绕所述下炉体(1)周向设置形成环形结构，所述下炉体(1)的底部固定有多个所述定位组件(2)，多个所述定位组件(2)沿所述保温层(3)的周向均匀分布，每个所述定位组件(2)均连接有所述支撑架(42)。

7.根据权利要求6所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述支撑台(41)包括多个第二支撑杆(412)，每个所述支撑柱(421)上设置有至少两个所述第二支撑杆(412)，所述第二支撑杆(412)沿所述支撑柱(421)的径向向外延伸。

8.根据权利要求7所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述保温层(3)为矩形，所述定位组件(2)为四个，分别设置在所述保温层(3)内侧的边角处，每个所述支撑柱(421)上设置有相互垂直的两个所述第二支撑杆(412)。

9.根据权利要求7所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述支撑台(41)还包括多个支撑平板(411)，相邻两个所述支撑架(42)上的两个所述第二支撑杆(412)之间连接有所述支撑平板(411)。

10.根据权利要求1所述的类晶体保温装置，其特征在于，所述类晶体保温装置还包括类晶体反应平台(6)，所述类晶体反应平台(6)设置在所述下炉体(1)的内部并搭接于所述定位组件(2)上，所述保温层(3)围设在所述类晶体反应平台(6)的外周面上。