[实用新型]一种硅片抛光用暂存放置系统有效
申请号: | 202022883129.5 | 申请日: | 2020-12-05 |
公开(公告)号: | CN213889549U | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 袁祥龙;刘园;武卫;刘建伟;由佰玲;孙晨光;王彦君;常雪岩;裴坤羽;祝斌;刘姣龙;张宏杰;谢艳;杨春雪;刘秒;吕莹;徐荣清 | 申请(专利权)人: | 天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B08B11/00;B08B3/02 |
代理公司: | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人: | 栾志超 |
地址: | 300384 天津市滨海*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 抛光 暂存 放置 系统 | ||
1.一种硅片抛光用暂存放置系统,其特征在于,包括:
用于放置待抛光硅片的上载暂存机构;
用于放置抛光后所述硅片的下载暂存机构;
以及用于驱动所述上载暂存机构和所述下载暂存机构旋转,并向置于所述上载暂存机构或所述下载暂存机构中的所述硅片的非抛光面进行喷淋的驱动清洗机构;
其中,所述上载暂存机构使所述硅片的待抛光面被溶液浸润;
所述下载暂存机构使所述硅片的抛光面被溶液保护且被清洗;
所述上载暂存机构和所述下载暂存机构绕设于所述驱动清洗机构设置。
2.根据权利要求1所述的一种硅片抛光用暂存放置系统,其特征在于,所述上载暂存机构包括若干相邻而设的上载装置,所述上载装置具有:
用于支撑所述硅片的上载支撑组件;
和用于浸润所述硅片待抛光面的上载溢流组件;
其中,所述上载支撑组件与所述硅片侧壁接触并使所述硅片悬空设置,且所述上载支撑组件可沿其高度方向上下移动;
所述上载溢流组件被置于所述上载支撑组件内并与所述上载支撑组件同心设置,所述上载溢流组件与所述硅片待抛光面全接触。
3.根据权利要求2所述的一种硅片抛光用暂存放置系统,其特征在于,所述上载支撑组件包括:
若干上载柱;
以及用于固定并带动所述上载柱升降的上载移动台;
其中,所述上载柱沿所述上载溢流组件外周缘设置,且其上端面设有一圆弧形凸台与所述硅片侧壁面接触;
所述上载移动台位于所述上载溢流组件的下方并与所述上载溢流组件间隙设置。
4.根据权利要求2或3所述的一种硅片抛光用暂存放置系统,其特征在于,所述上载溢流组件包括:
固设于所述上载支撑组件上的上载盘;
置于所述上载盘上且可以吸排溶液的弹性垫;
以及依次贯穿所述上载盘和所述弹性垫的上载溢流孔;
其中,所述弹性垫远离所述上载盘一侧设有若干的环形毛刷;
所述上载溢流孔分布在所述毛刷间隙内设置。
5.根据权利要求4所述的一种硅片抛光用暂存放置系统,其特征在于,至少在所述上载盘中心处设有所述上载溢流孔。
6.根据权利要求1-3、5任一项所述的一种硅片抛光用暂存放置系统,其特征在于,所述下载暂存机构包括若干相邻而设的下载装置,所述下载装置具有:
存有一定溶液并使溶液缓冲流动的下载放置组件;
和用于支撑所述硅片并可上下移动的下载支撑组件;
其中,所述下载支撑组件贯穿所述下载放置组件设置;连接所述下载支撑组件中与所述硅片的接触点所围成图形的外接圆与所述硅片同径。
7.根据权利要求6所述的一种硅片抛光用暂存放置系统,其特征在于,所述下载放置组件包括:
下载盘;
和至少在所述下载盘中心设置的下载溢流孔;
所述下载盘具有用于存储溶液的内层槽和与所述内层槽轮廓相适配的外层槽;在所述外层槽中设有若干用于被所述下载支撑组件贯穿且与所述外层槽一体设置的凸耳。
8.根据权利要求7所述的一种硅片抛光用暂存放置系统,其特征在于,所述下载支撑组件包括:
若干沿所述外层槽周缘设置的下载柱;
以及用于固定所述下载柱的下载放置架;
所述下载柱的上段部为圆锥体,穿过所述凸耳并与所述硅片的侧壁面接触并使所述硅片的抛光面靠近所述下载盘中一侧设置;
所述下载放置架位于所述下载盘下方并设有被所述下载溢流孔贯穿的通孔。
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