[实用新型]一种绕丝结构有效
申请号: | 202022883614.2 | 申请日: | 2020-12-04 |
公开(公告)号: | CN214250551U | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 刘群;郭永胜;林佳继;张武;庞爱锁;朱太荣 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
主分类号: | F27B17/00 | 分类号: | F27B17/00;F27D11/02;F27D19/00 |
代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 结构 | ||
本实用新型公开了一种绕丝结构,包括炉丝,所述炉丝由炉口辅热区炉丝、恒温区炉丝和炉尾辅热区炉丝构成,所述炉口辅热区炉丝、恒温区炉丝以及炉尾辅热区炉丝在轴向分别由多组温区炉丝构成,至少一组温区炉丝在圆周方向由至少两组分区构成,各分区分别与电路连接,电路控制各分区所在区域的温度,本实用新型将炉丝的炉口辅热区炉丝、恒温区炉丝和炉尾辅热区炉丝的温区炉丝进行温度控制,保证了炉内产品整体温度的均匀性,大大提高了控温能力,本实用新型将至少一组温区炉丝细分成2‑4个分区,每一分区设定相应的功率,通过热电偶控制功率,使硅片组处于优化的温度场,从而实现了硅片组温度的均匀控制。
技术领域
本实用新型属于光伏领域,涉及一种绕丝结构。
背景技术
电阻炉是制造太阳能电池片的重要核心设备,硅片在炉内进行各种工艺处理时,要求硅片温度尽量均匀,电阻炉是硅片反应的热量来源,故电阻炉内电炉丝的绕制与布局就显得尤为重要。
电阻炉在制作设计过程中,为了内部热场均匀,现有技术最常用的方法是对炉丝绕制、布局、节距等方面,尽量做到最均匀,然而在生产过程中,由于放在炉内的产品布局不对称,产品与炉丝间的距离差异,各地方的负载本身布置不均匀,炉丝加热后,产品不同部位温度会有明显差异。
在对产品性能的不断追求中,产品不同部位的温度差异对硅片性能的影响日趋展现出来,常规绕丝结构的热场很难处理这样的问题,本实用新型有效地解决了这种问题。
发明内容
本实用新型为了克服现有技术的不足,提供一种绕丝结构。
为了实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:一种绕丝结构,其特征在于:包括炉丝,所述炉丝由炉口辅热区炉丝、恒温区炉丝和炉尾辅热区炉丝构成,所述炉口辅热区炉丝、恒温区炉丝以及炉尾辅热区炉丝在轴向分别由多组温区炉丝构成,至少一组温区炉丝在圆周方向由至少两组分区构成,各分区分别与电路连接,电路控制各分区所在区域的温度。
进一步的;所述炉口辅热区炉丝、恒温区炉丝、炉尾辅热区炉丝的温区炉丝在圆周方向的分区分别设置为四组,包括上端部、右端部、下端部以及左端部,所述上端部、右端部、下端部以及左端部分别由一路电路控制,所述上端部、右端部、下端部以及左端部控制硅片组所在区域的温度。
进一步的;所述上端部、右端部、下端部以及左端部的电路控制方式包括两种,一种通过热电偶主控和跟随控制方式,所述上端部、右端部、下端部以及左端部中不大于三组分区的电路作为主路,每路主路由热电偶反馈控制,其余分区的电路依据主路做跟随控制;另一种通过热电偶单独控制方式,控制上端部、右端部、下端部以及左端部的电路均作为主路,每路主路均由热电偶反馈控制。
进一步的;所述上端部位于硅片组上方,所述右端部位于硅片组右方,所述下端部位于硅片组下方,所述左端部位于硅片组左方,上端部控制硅片组上部硅片所在区域的温度,所述下端部控制硅片组下部硅片所在区域的温度,所述右端部以及左端部控制硅片组中部硅片所在区域的温度,依据上部硅片、中部硅片以及下部硅片所在区域的温度设定上端部、右端部、下端部以及左端部电路的功率。
进一步的;所述炉口辅热区炉丝、恒温区炉丝、炉尾辅热区炉丝的温区炉丝在圆周方向的分区分别设置为三组,包括一路、二路以及三路,所述一路、二路以及三路分别由一路电路控制,所述一路、二路以及三路控制硅片组所在区域的温度。
进一步的;所述一路、二路以及三路的电路控制方式包括两种,一种通过热电偶主控和跟随控制方式,一路、二路以及三路三部分中不大于两组的分区电路作为主路,每路主路由热电偶反馈控制,其余分区的电路依据主路做跟随控制;另一种通过热电偶单独控制方式,一路、二路以及三路均作为主路,每路主路均由热电偶反馈控制,所述一路、二路以及三路的电路功率根上部硅片、中部硅片以及下部硅片所在区域的温度设定。
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