[实用新型]一种涂布纠偏装置及涂布系统

权利要求书

1.一种涂布纠偏装置，用于设置于第一涂布机构和第二涂布机构之间，所述第一涂布机构用于对极片基材的正面进行涂布，以形成第一涂布区，所述第二涂布机构位于所述第一涂布机构的下游，用于对所述极片基材的反面进行涂布，以形成第二涂布区，其特征在于，所述涂布纠偏装置包括：

检测机构，被配置为对所述第一涂布区的位置进行检测；以及

纠偏机构，用于响应于所述检测机构的检测结果，以调节所述极片基材与所述第二涂布机构的相对位置，以减小所述第二涂布区相对于所述第一涂布区的偏移量。

2.根据权利要求1所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述检测机构被配置为对所述第一涂布区的边缘的位置进行检测。

3.根据权利要求2所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述检测机构包括两个检测单元，所述两个检测单元分别用于检测所述第一涂布区在所述极片基材的宽度方向上相对的两个边缘的位置。

4.根据权利要求3所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述检测单元为光电检测器。

5.根据权利要求3所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述涂布纠偏装置还包括：

基架，所述检测单元和所述纠偏机构均安装于所述基架上；以及

托辊，安装于所述基架上，用于托起所述极片基材。

6.根据权利要求5所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述托辊轴向具有相对的第一端和第二端；

所述涂布纠偏装置还包括：

第一调节机构，所述第一端通过所述第一调节机构与所述基架连接；以及

第二调节机构，所述第二端通过所述第二调节机构与所述基架连接；

所述第一调节机构和所述第二调节机构用于调节所述托辊的位置，以调节所述极片基材与所述检测单元的距离。

7.根据权利要求5-6任一项所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述检测单元沿所述极片基材的宽度方向位置可调地设置于所述基架。

8.根据权利要求7所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述涂布纠偏装置还包括：

第三调节机构，所述检测单元连接于所述第三调节机构，所述第三调节机构沿所述极片基材的宽度方向位置可调地设置于所述基架，所述第三调节机构用于调节所述检测单元与所述极片基材的距离，和/或，调节所述检测单元在所述极片基材的宽度方向上的位置。

9.根据权利要求8所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述第三调节机构还用于调节所述检测单元的检测角度。

10.一种涂布系统，其特征在于，包括：

第一涂布机构，用于对极片基材的正面进行涂布，以形成第一涂布区；

第二涂布机构，位于所述第一涂布机构的下游，用于对极片基材的反面进行涂布，以形成第二涂布区；以及

根据权利要求1-9任一项所述的涂布纠偏装置，所述涂布纠偏装置设置于所述第一涂布机构与所述第二涂布机构之间。