[实用新型]运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置有效

专利信息
申请号: 202022893394.1 申请日: 2020-12-03
公开(公告)号: CN214287612U 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 周通;陈东达;巫旭;方道良;卢建波;沈李奇;赵重;周亚飞;王世荣;李红利;李想 申请(专利权)人: 浙江科菲科技股份有限公司;金川集团股份有限公司
主分类号: B01F3/04 分类号: B01F3/04;B01F13/10;B01D53/52;B01D53/78;C25C1/08;C25C7/06;C22B23/00;C22B3/02;C22B3/44
代理公司: 北京艾皮专利代理有限公司 11777 代理人: 杨克
地址: 314000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 运用 硫化氢 气体 去除 电解 体系 离子 装置
【权利要求书】:

1.一种运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:包括射流气液混合反应器(1)和旋流反应槽(2),所述旋流反应槽(2)中部设置有筛网(3),所述旋流反应槽(2)于筛网(3)之上设置有扰流板(4),所述旋流反应槽(2)顶部设置有PH计(6)、ORP计(7)、温度计(8)、热电阻(8-8)以及压力传感器(9),所述射流气液混合反应器(1)安装于旋流反应槽(2)的底部,所述射流气液混合反应器(1)的两相进口处分别安装有气用单向阀(10)和电磁流量计(11)。

2.根据权利要求1所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述射流气液混合反应器(1)包括前段射流混合部件(12)以及后段静态混合反应部件(13)。

3.根据权利要求2所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述前段射流混合部件(12)包括液相泵入组件(14)、气相充入组件(15)以及射流混合器(16);

所述液相泵入组件(14)包括连接于电磁流量计(11)进液端的液相管道(17)以及设置于液相管道(17)入口端的给液泵(18),所述给液泵(18)的入口端设置有进液阀(19),其出口端设置有出液阀(20);

所述气相充入组件(15)整体呈竖直安装,其包括输入接管(21)以及安装短接管(22),所述气用单向阀(10)安装于输入接管(21)和安装短接管(22)之间;

所述射流混合器(16)包括连通于后段静态混合反应部件(13)的吸入室(23)、连接于吸入室(23)的收缩段喷嘴(24),以及连接于吸入室(23)的扩散段(25),所述收缩段喷嘴(24)入口端与液相管道(17)连通,所述扩散段(25)入口端与安装短接管(22)连通。

4.根据权利要求2所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述后段静态混合反应部件(13)包括外管(26)以及设置于外管内的波纹切割内管(27),所述波纹切割内管(27)截面呈正六边形,其管壁贯穿开设有穿流通孔(28)。

5.根据权利要求4所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述后段静态混合反应部件(13)还设置有短接管道(29),所述短接管道(29)两端均设置有三通管(30)连接于外管(26)的两端,所述短接管道(29)设置有通断球阀(31)。

6.根据权利要求1所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述旋流反应槽(2)底部设置有排渣口(32),所述排渣口(32)设置有排渣阀(33),所述旋流反应槽(2)顶部设置有尾气调节口(34),所述旋流反应槽(2)顶部设置有多个溢流口(35)。

7.根据权利要求6所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述旋流反应槽(2)的顶部呈漏斗状设计,多个所述溢流口(35)呈竖直开口向下状设置于旋流反应槽(2)的顶部上沿。

8.根据权利要求1所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述旋流反应槽(2)对称法兰固定有两个第一安装定位组件(36),所述第一安装定位组件(36)的定位杆延伸入旋流反应槽(2)内,所述筛网(3)焊接固定有螺母(37),所述第一安装定位组件(36)的端部与螺母(37)螺纹配合。

9.根据权利要求1所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述旋流反应槽(2)对称法兰固定有两个第二安装定位组件(38),所述第二安装定位组件(38)的定位杆延伸入旋流反应槽(2)内并设置有夹口(39),所述夹口(39)过盈夹紧固定扰流板(4)。

10.根据权利要求1所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置,其特征在于:所述旋流反应槽(2)的顶部设置有检修入口(40),所述检修入口(40)法兰固定有封闭端盖(41)。

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