[实用新型]晶片光阻去除装置有效
申请号: | 202022894767.7 | 申请日: | 2020-12-04 |
公开(公告)号: | CN214896212U | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 钟兴进 | 申请(专利权)人: | 广州市鸿浩光电半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人: | 吴圳添 |
地址: | 511300 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶片 去除 装置 | ||
1.晶片光阻去除装置,其特征在于:晶片光阻去除装置,包括机台(1),所述机台(1)上方设置有顶板(2),顶板(2)底端设置有滑轨(3),所述滑轨(3)上设置有操纵臂(4),操纵臂(4)底端设置有载具(5),所述机台(1)内部左侧设置有紫外线箱(7),紫外线箱(7)右侧设置有剥离箱(9),所述剥离箱(9)内底端设置有加热件(10),剥离箱(9)两侧设置有超声装置(11),所述剥离箱(9)右侧设置有清洗箱(12),清洗箱(12)内部设置有滤网(13),清洗箱(12)内底端设置有导流板(14),所述清洗箱(12)底端设置有排水管(15),排水管(15)一端与清洗箱(12)相通,另一端上设置有导水箱(16),所述导水箱(16)右侧设置有抽水管(17),抽水管(17)一端设置有泵体(18),所述泵体(18)一端设置有导水管(19),导水管(19)一端与清洗箱(12)相通,所述机台(1)上设置有PLC控制器(6)。
2.根据权利要求1所述的晶片光阻去除装置,其特征在于:所述清洗箱(12)内壁两侧设置有卡块(20),所述滤网(13)与卡块(20)相适配,卡块(20)与滤网(13)可活动连接。
3.根据权利要求1所述的晶片光阻去除装置,其特征在于:所述导流板(14)为倾斜设置,导流板(14)底面与排水管(15)相对应,所述排水管(15)上设置有电磁阀。
4.根据权利要求3所述的晶片光阻去除装置,其特征在于:所述电磁阀与PLC控制器(6)电连接,所述操纵臂(4)与PLC控制器(6)电性连接。
5.根据权利要求1所述的晶片光阻去除装置,其特征在于:所述紫外线箱(7)内部设置有数个紫外线灯管(8),所述紫外线灯管(8)竖直设置在紫外线箱(7)内壁上。
6.根据权利要求1所述的晶片光阻去除装置,其特征在于:所述紫外线箱(7)、剥离箱(9)和清洗箱(12)均为不锈钢材质。
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