[实用新型]表面清洗器及物理气相沉积设备

说明书

一种表面清洗器，包括弧形管道、阳离子源以及线圈，阳离子源用于产生阳离子，阳离子用于清洗工件的表面；线圈位于弧形管道的周围，用于在弧形管道中产生磁场；其中，磁场用于使阳离子经过弧形管道到达工件的表面。本申请还提供一种包括工件表面清洗器的物理气相沉积设备。

技术领域

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种表面清洗器及物理气相沉积设备。

背景技术

对工件镀膜之前，需要对工件表面进行清洗，以增加膜层与工件的结合力。

通常采用的工件表面清洗的方法有吹气处理、擦拭处理或烘烤处理等等。其中最常用的烘烤处理为将工件进行烘烤，但此种方法处理时间长，影响生产产能。

实用新型内容

有鉴于此，有必要提供一种表面清洗器，以解决上述问题。

另，还有必要提供一种包括该表面清洗器的物理气相沉积装置。

一种表面清洗器，包括弧形管道、阳离子源以及线圈，阳离子源用于产生阳离子，所述阳离子用于清洗所述工件的表面；线圈用于在所述弧形管道中形成磁场；其中，所述阳离子经所述磁场通过所述弧形管道到达所述工件的表面。

进一步地，所述阳离子源包括弧靶以及引弧针，引弧针用于接触所述弧靶。

进一步地，所述阳离子源还包括：

驱动件，连接所述引弧针，用于驱动所述引弧针接触所述弧靶。

进一步地，其中，

所述阳离子源位于所述弧形管道的一端，所述弧形管道的另一端用于对准所述工件的表面。

进一步地，所述线圈缠绕于所述弧形管道的外壁。

进一步地，所述线圈包括：

聚焦线圈，位于所述弧形管道的一端附近，用于形成磁场以聚焦所述阳离子，其中，所述弧形管道的所述一端连接所述阳离子源。

进一步地，所述线圈还包括：

发散线圈，位于所述弧形管道的另一端，用于形成磁场以发散所述阳离子。

进一步地，所述线圈还包括：

偏转线圈，位于所述聚焦线圈和所述偏转线圈之间，用于形成磁场以偏转所述阳离子。

一种物理气相沉积设备，包括所述表面清洗器。

进一步地，其中，所述表面清洗器的数量为3个。

本申请提供的工件表面清洗器，通过设置弧形管道以及在弧形管道上设置产生磁场的线圈，磁场改变阳离子源产生的阳离子的运动方向，使得弧形管道也能够阻止与阳离子同时产生的金属蒸汽的运动，过滤掉金属蒸汽，从而防止金属蒸汽汇聚成大颗粒到达工件的表面，实现在缩短表面清洗时间的前提下，保证被清洗后的工件的表面平整，且镀膜后符合工艺要求。

附图说明

图1为本申请实施例提供的物理气相沉积设备的整体结构示意图。

图2为图1所示的表面清洗器的截面示意图。

主要元件符号说明