[实用新型]一种染料盆清洗装置

权利要求书

1.一种染料盆清洗装置，其特征在于：

包括机架；

输送装置，输送装置安装在机架上的，能够带动盆体在机架上移动，所述输送装置包括转动连接在机架上的若干导辊和带动导辊转动的驱动装置；

翻转装置，能够将输送装置上的盆体翻转到开口向下，所述翻转装置包括通过支架固定在机架上的升降装置，所述升降装置上固定有两个设置在输送装置两侧的夹紧气缸，所述夹紧气缸的活塞杆上固定有旋转气缸，所述旋转气缸的旋转轴上固定有夹子；

清洗机构，用于对输送装置上输送的盆体进行清洗，所述清洗机构包括固定在机架上的隔离罩，所述隔离罩上设有供盆体进入和移出的进口和出口，所述隔离罩内固定有设置在输送装置上方的上清洗环，所述上清洗环内设置为中空，所述上清洗环上固定有若干向清洗环轴线侧向下倾斜的倾斜管，所述机架上固定有设置在盆体下方的下清洗推杆，所述下清洗推杆的推杆上固定有喷头，所述喷头上设有若干喷孔，所述上清洗环和喷头内均可通入水或蒸汽。

2.根据权利要求1所述的一种染料盆清洗装置，其特征在于：所述隔离罩上固定有进口气缸，所述进口气缸的活塞杆上固定有用于将进口打开或关闭的进口开闭板，所述隔离罩上还固定有出口气缸，所述出口气缸的活塞杆上固定有用于将出口打开或关闭的出口开闭板。

3.根据权利要求1所述的一种染料盆清洗装置，其特征在于：所述机架上固定有设置在盆体和下清洗推杆之间的导流板，所述下清洗推杆的推杆穿过导流板，所述导流板向下倾斜设置。

4.根据权利要求3所述的一种染料盆清洗装置，其特征在于：所述翻转装置和清洗装置的下方设有集液箱，所述集液箱设有开口向上的集液槽，所述导流板的下端位于集液槽的上方。

5.根据权利要求4所述的一种染料盆清洗装置，其特征在于：所述机架上固定有第一限位伸缩气缸和第二限位伸缩气缸，所述第一限位伸缩气缸的活塞杆上固定有第一限位板，所述第一限位板可穿过输送装置移动到翻转装置和清洗装置之间，所述第二限位伸缩气缸的活塞杆上固定有第二限位板，所述第二限位板设置在隔离罩内且位于靠近出口的一侧，所述第二限位板的包括相互平行的固定部和限位部，所述固定部和限位部之间设有连接部，所述固定部、连接部和限位部之间形成凹槽，所述导流板的上端延伸进凹槽。

6.根据权利要求1所述的一种染料盆清洗装置，其特征在于：所述喷头上固定有可将盆体吸附和松开的吸附装置。

7.根据权利要求6所述的一种染料盆清洗装置，其特征在于：所述吸附装置设置为磁铁。