[实用新型]一种化成水合处理时间调节装置

说明书

本实用新型公开了一种化成水合处理时间调节装置，应用于腐蚀箔的化成水合处理，包括水合处理槽和辊筒，所述的水合处理槽顶部设有纯水进口，底部设有溢流水出口；所述的水合处理槽顶部和内部底端分别安装有用于传动腐蚀箔的辊筒；还包括顶部开口的溢流水箱；所述的水合处理槽的一侧设有竖直布置的导轨；所述的溢流水箱的两侧设有与导轨相匹配的滑槽；所述的溢流水箱通过滑槽与导轨滑动连接；本实用新型增加了导轨以及导轨上高度可调节溢流水箱，根据生产需要灵活的水合处理槽的水位，改变腐蚀箔在水合处理槽的浸泡长度，调节水合处理时间，有效解决水合处理时间不合理引起的箔样容量下降以及箔面起皱、箔边裂边等会导致断箔的不良现象。

技术领域

本实用新型属于化成设备领域，涉及一种化成水合处理时间调节的装置。

背景技术

随着电子工业的飞速发展，铝电解电容器的应用更加广泛，性能要求也越来越高。铝电解电容器用化成箔是电子信息产业基础元器件类产品的电子主要材料，其品质直接影响电容器的性能。化成箔是由特制的高纯铝箔经过电化学或化学腐蚀后扩大表面积，再将腐蚀过的铝箔经过高温纯水水合处理，生成一层水合氧化膜，然后在化成槽中采用多级电压赋能在铝箔表面形成一层氧化膜（三氧化二铝）后的产物。如果高温水合处理时间过长，生成的水化氧化膜过多，过多的水化氧化膜会堵塞细小的腐蚀隧道孔导致容量下降，同时水合处理时间过长容易引起箔面起皱、箔边裂边等不良现象；水合处理时间过短，生成的水化氧化膜过少，在化成时则会明显增加生成氧化膜所需的电量，造成电耗成本上升。

现有化成生产线的水合处理槽体和辊筒都是固定，水合处理槽的纯水溢流通过液面的溢流口排出，箔速固定不变时，水合处理时间也固定不可调节。然而在实际生产中，生产700V以上超高压化成箔时，由于生成的氧化膜较厚，需要调低箔速进行生产，此时水合处理时间过长，容易引起容量下降以及箔面起皱、箔边裂边等会导致断箔的不良现象。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有水合处理槽存在的不足，设计一种水合处理时间可调的装置，本装置可根据生产需要灵活的调节水合处理时间，有效的解决水合处理时间不合理引起的容量下降以及箔面起皱、箔边裂边等会导致断箔的不良现象。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

一种化成水合处理时间调节的装置，应用于腐蚀箔的化成水合处理，包括水合处理槽和辊筒，所述的水合处理槽顶部设有纯水进口，底部设有溢流水出口；所述的水合处理槽顶部和内部底端分别安装有用于传动腐蚀箔的辊筒；还包括顶部开口的溢流水箱；所述的水合处理槽的一侧设有竖直布置的导轨，导轨底部安装有支撑座；所述的溢流水箱的两侧设有与导轨相匹配的滑槽；所述的溢流水箱通过滑槽与导轨滑动连接；所述的导轨的一侧安装有用于固定溢流水箱的限位螺栓；通过限位螺栓调节溢流水箱的高度，可以根据实际生产需要灵活的调节腐蚀箔在水合处理槽的水合处理时间；所述的溢流水箱分别设有进水口和排水口，所述的进水口通过软管A连接溢流水出口；所述的排水口安装有软管B。

作为进一步技术改进，所述的导轨的表面设有刻度。所述的刻度用于精确掌控溢流水箱的高度，进一步精确控制水合处理槽内水合液面的高度，控制水合处理时间。

作为进一步技术改进，所述的溢流水出口的内侧安装有滤网箱。所述的滤网箱用于防止水合处理槽内会沉积杂质使溢流水出口不通畅，甚至堵塞造成水合液面无法调节。

作为进一步技术改进，所述的溢流水箱安装有手推柄。

作为进一步技术改进，所述的软管B安装有阀门。所述的阀门用于调节溢流速度。

本实用新型的工作原理：