[实用新型]一种磷源恒温设备有效
申请号: | 202022943503.6 | 申请日: | 2020-12-11 |
公开(公告)号: | CN213459663U | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 李铁 | 申请(专利权)人: | 李铁 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18;G01N33/00;B65D25/02 |
代理公司: | 南京科知维创知识产权代理有限责任公司 32270 | 代理人: | 许益民 |
地址: | 154000 黑龙江省*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 恒温 设备 | ||
本实用新型提供一种磷源恒温设备,包括外壳、恒温箱体和控制模块;还包括三氯氧磷气体检测探头和应急抽排风装置,三氯氧磷气体检测探头设于恒温箱体的内壁,用于对恒温箱体内部的三氯氧磷气体浓度进行检测,三氯氧磷气体检测探头与控制模块电连接;应急抽排风装置包括漩涡气泵,漩涡气泵与控制模块电连接。本实用新型的磷源恒温设备设置三氯氧磷气体检测探头,用于检测恒温箱体内的三氯氧磷气体浓度,当三氯氧磷气体浓度超限时系统发出报警信号;设置应急抽排风装置,用于在出现磷源泄漏情况时进行应急抽排风,将恒温箱体内的泄漏气体排至已连接的尾气处理系统中,从而保证使用安全。
技术领域
本实用新型涉及太阳能光伏生产设备技术领域,尤其涉及一种太阳能电池片生产过程中用于进行硅片表面腐蚀的磷源恒温设备。
背景技术
扩散工艺是太阳能电池工艺的核心,直接关系到太阳能电池的转换效率,很多因素都会影响扩散工艺,其中扩散源三氯氧磷(POCl3)温度的恒定对扩散工艺至关重要,因此需要一种恒温装置确保磷源温度恒定。PSS(Phosphorus Safe Supply)系统,又称磷源安全供料系统,是一种密闭性精密恒温设备,常用于进行磷源恒温储存。三氯氧磷易挥发,有强烈的刺激气味,有强腐蚀性,一旦发生泄漏,将会带来生产安全问题。因此,为了保障生产安全,磷源恒温设备需要具备磷源泄漏报警和应急处理功能。
发明内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种具有磷源气体泄漏报警以及应急排风处理功能的磷源恒温设备,提高使用安全性。
为实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种磷源恒温设备,包括外壳、恒温箱体和控制模块,所述恒温箱体、所述控制模块设于所述外壳的内部;还包括三氯氧磷气体检测探头和应急抽排风装置,所述三氯氧磷气体检测探头设于所述恒温箱体的内壁,用于对所述恒温箱体内部的三氯氧磷气体浓度进行检测,所述三氯氧磷气体检测探头与所述控制模块电连接;所述应急抽排风装置包括漩涡气泵,所述漩涡气泵设于所述外壳内部,且与所述恒温箱体连通;所述漩涡气泵与所述控制模块电连接。
优选地,所述外壳上设有声光报警器,所述声光报警器与所述控制模块电连接。
优选地,所述恒温箱体的内部设有托盘,所述托盘上设有储位槽,用于放置磷源瓶。
优选地,所述恒温箱体的内部设有照明模块,所述照明模块与所述控制模块电连接。
优选地,所述外壳上设有密封门,所述密封门的一侧与所述外壳铰接,所述密封门的内侧设有密封条,用于保证所述密封门与所述恒温箱体之间的密封性。
优选地,所述密封门上设有透明的观察视口。
优选地,所述外壳上设有显示仪表和电源指示灯,所述显示仪表、所述电源指示灯分别与所述控制模块电连接。
优选地,所述外壳上设有操作仓,所述操作仓内设有上电控制开关、急停控制开关和排风控制开关,所述上电控制开关、所述急停控制开关、所述排风控制开关分别与所述控制模块电连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:本实用新型的磷源恒温设备设置三氯氧磷气体检测探头,用于检测恒温箱体内的三氯氧磷气体浓度,当三氯氧磷气体浓度超限时系统发出报警信号,设置应急抽排风装置,用于在出现磷源泄漏情况时进行应急抽排风,将恒温箱体内的泄漏气体排至已连接的尾气处理系统中,从而保证使用安全。
附图说明
图1为本实用新型实施例1的一种磷源恒温设备的主视图;
图2为本实用新型实施例1的一种磷源恒温设备的内部结构示意图;
图3为本实用新型实施例1的一种磷源恒温设备中操作仓的结构示意图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造