[实用新型]一种石英晶片加工前清洗设备

权利要求书

1.一种石英晶片加工前清洗设备，其特征在于：包括，

底面固定安装有若干支撑腿所设的设备本体；

固定安装在设备本体顶面上的待加工石英晶片输送设备；

固定安装在设备本体侧面上的支撑板，在支撑板的顶面上固定安装有安装板，在安装板的底面上固定安装有用于对待加工石英晶片输送设备上的石英晶片进行清洗所设的喷淋管；

固定安装在待加工石英晶片输送设备后方的设备本体的顶面上的用于输送清洗后的石英晶片所设的第二输送设备。

2.根据权利要求1所述的一种石英晶片加工前清洗设备，其特征在于：所述的待加工石英晶片输送设备和第二输送设备均采用带式输送机。

3.根据权利要求2所述的一种石英晶片加工前清洗设备，其特征在于：还包括回收水机构，其包括，

固定安装在设备本体上的对向安装的两个第一导向板，所述的待加工石英晶片输送设备位于两个第一导向板之间的设备本体上，位于待加工石英晶片输送设备上方的第一导向板上具有用于通过喷淋管喷洒出的水所设的导流孔，位于导流孔下方的第一导向板的外壁上固定安装有用于对导流孔流出的水进行导向所设的导流板；

固定安装在位于导流板下方的设备本体侧壁上的回收水储集盒，回收水储集盒内具有用于容纳水的空间且回收水储集盒的顶部呈开放式设置，在回收水储集盒的内壁开设有滑轨，在回收水储集盒内还设置有过滤板，过滤板上具有可对进入至回收水储集盒内水进行过滤所设的滤网，所述的过滤板的侧面固定安装有可沿滑轨移动所设的滑块，过滤板的顶面上还固定安装有便于将过滤板从回收水储集盒中取出所设的吊耳。

4.根据权利要求3所述的一种石英晶片加工前清洗设备，其特征在于：所述的设备本体的底部内具有水箱，水箱内具有提升泵，提升泵的出水端通过管道与喷淋管连接。

5.根据权利要求4所述的一种石英晶片加工前清洗设备，其特征在于：所述的待加工石英晶片输送设备的出口端位于第二输送设备中部的正上方设置。

6.根据权利要求5所述的一种石英晶片加工前清洗设备，其特征在于：位于第二输送设备两侧的设备本体上固定安装有第二导向板，位于第二导向板前端部设备本体顶面上开设有积水槽，位于第二导向板后端部的设备本体顶面上固定安装有导料组件，位于第二输送设备中部上方的设备本体上开设有过水通道，过水通道的进口端与回收水储集盒的底部内壁连通。

7.根据权利要求6所述的一种石英晶片加工前清洗设备，其特征在于：所述的导料组件包括两根支撑柱，位于支撑柱的顶面上固定安装有导料斜板，导料斜板的进口端位于第二输送设备出口端的正下方，在导料斜板的顶面上开设有用于石英晶片滑动所设的滑道。