[实用新型]一种磁流体密封结构有效

专利信息
申请号: 202022956759.0 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN215806306U 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 尹利 申请(专利权)人: 上海伊灿真空技术有限公司
主分类号: F16J15/43 分类号: F16J15/43
代理公司: 上海宣宜专利代理事务所(普通合伙) 31288 代理人: 陈酩
地址: 200000 上海市青浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 流体 密封 结构
【权利要求书】:

1.一种磁流体密封结构,包括结构本体,所述结构本体包括壳体(1),其特征在于,所述壳体(1)的内部设置有水冷管接口(2)、水道(3)、盖板(4)、第一隔磁圈(6)、第一磁铁(7)、第一密封槽(8)、磁铁(9)、前轴承(18)、后轴承(10)、挡水管(11)、挡圈卡簧(12)、磁液槽(13)、轴(14),其中,

所述轴(14)一侧套装有前轴承(18),所述前轴承(18)的两侧均套装有挡圈卡簧(12),一个所述挡圈卡簧(12)一侧的轴(14)上安装有第一氟胶水封(19),另一个所述挡圈卡簧(12)另一侧的轴(14)上依次安装有第一隔磁圈(6)、两个所述第一磁铁(7)、第二隔磁圈、后轴承(10)和盖板(4),两个所述第一磁铁(7)的中部设置有隔磁套筒,两个所述第一磁铁(7)通过隔磁套筒安装有磁铁(9),两个所述第一磁铁(7)相对的轴(14)上设置有磁液槽(13),两个所述第一磁铁(7)的外侧均安装有挡水管(11),所述水冷管接口(2)设置在壳体(1)的内侧顶部,所述水道(3)安装在水冷管接口(2)和挡水管(11)的顶部之间,所述水道(3)的底部与隔磁套筒的顶部相抵设置。

2.根据权利要求1所述的一种磁流体密封结构,其特征在于,所述结构本体还包括第二密封槽(5)、螺丝孔(17)和外壳法兰孔(20),所述第二密封槽(5)设置在壳体(1)的外部一侧,所述外壳法兰孔(20)设置在壳体(1)的下方。

3.根据权利要求1所述的一种磁流体密封结构,其特征在于,所述轴(14)的两侧设置有键槽(15),一侧所述键槽(15)的中部设置有螺丝孔(17),所述螺丝孔(17)外部的轴(14)上设置有挡圈槽(16)。

4.根据权利要求2所述的一种磁流体密封结构,其特征在于,所述磁铁(9)为纽扣状结构或环形状结构中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种磁流体密封结构,其特征在于,所述第一密封槽(8)设置两组,两组所述第一密封槽(8)均设置在两个所述第一磁铁(7)的外侧,所述第一密封槽(8)的内部安装有第二氟胶水封。

6.根据权利要求1所述的一种磁流体密封结构,其特征在于,所述壳体(1)包括法兰结构(101)和筒身(102)。

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