[实用新型]靶材磁控镀膜支架

说明书

本实用新型公开了靶材磁控镀膜支架，包括离子溅射仪本体、镀膜支板、靶材本体和滑动件，所述镀膜支板固定连接在离子溅射仪本体内部，所述镀膜支板两条对角线分别设有四条滑轨，所述镀膜支板顶部设有多个凹孔，所述四条滑轨顶部设有四个挡杆，所述挡杆两端滑动连接有两个卡接件，所述滑动件设置有四个且滑动连接在镀膜支板内部，所述滑动件输出端与挡杆固定连接，所述靶材本体滑动连接在四个挡杆内部，本实用新型中，通过调节滑动件，使四个滑动件与靶材外侧外切，将靶材稳定在镀膜支板上，通过所设的卡接件，将滑动挡杆与镀膜支板卡接，有利于加工不同尺寸的圆形靶材。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及靶材磁控镀膜支架。

背景技术

磁控溅射又称高速低温溅射，对比二极溅射其沉积速率高，工作气压低，镀膜质量高，工艺稳定，便于大规模生产，镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

在进行靶材磁控镀膜时，将靶材放置在离子溅射仪内的支架上，但对于尺寸不同大小的圆形靶材不便调节固定，更换不同支架繁琐且浪费时间，从而给磁控镀膜加工带来不必要的麻烦，为此，我们提出靶材磁控镀膜支架。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的靶材磁控镀膜支架。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：靶材磁控镀膜支架，包括离子溅射仪本体、镀膜支板、靶材本体和滑动件，所述镀膜支板固定连接在离子溅射仪本体内部，所述镀膜支板两条对角线分别设有四条滑轨，所述镀膜支板顶部设有多个凹孔，所述四条滑轨顶部设有四个挡杆，所述挡杆两端滑动连接有两个卡接件；

所述卡接件包括拉杆、挡块、顶板、支撑弹簧，所述拉杆滑动贯穿挡板，所述镀膜支板内部设有卡接槽，所述拉杆滑动贯穿凹孔，所述拉杆顶部固定连接有把手，所述拉杆底部设有挡块，且挡块与卡接槽卡接，所述镀膜支板的底部设置有支撑槽，所述顶板与挡块相接触，所述支撑弹簧和顶板滑动连接在支撑槽内部；

所述镀膜支板的内部设置有安装槽，所述滑动件包括固定板、连接板和伸缩弹簧，所述固定板固定连接在安装槽内部，所述伸缩弹簧一端与固定板的顶端固定连接，且所述伸缩弹簧的另一端与连接板的侧壁固定连接，所述滑动件的一端滑动连接在镀膜支板内部，且所述滑动件输出端与挡杆的侧壁固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述伸缩弹簧和连接板滑动连接在安装槽的内部，且所述连接板滑动穿过滑轨与挡杆固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述挡杆的横截面为L形状。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述支撑弹簧的一端固定连接在支撑槽底部，且所述支撑弹簧的另一端与顶板固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述把手外侧设有防滑纹。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述两个卡接件滑动贯穿凹孔与镀膜支板卡接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述滑动件的数量有四个。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述靶材本体滑动连接在四个挡杆内侧壁。