[实用新型]一种用于大尺寸线掩膜版的转运包装有效

专利信息
申请号: 202023007493.1 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN213921943U 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 肖青;陈俊荣;刘伟 申请(专利权)人: 成都路维光电有限公司
主分类号: B65D19/06 分类号: B65D19/06;B65D77/04;B65D19/38;B65D85/30
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 张严芳
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 尺寸 线掩膜版 转运 包装
【说明书】:

实用新型公开了一种用于大尺寸线掩膜版的转运包装,包括外箱、箱盖和托盘,所述外箱的上方设置有箱盖,所述外箱的下方设置有托盘,所述外箱与托盘可拆卸连接,所述托盘的一侧设置可开合的活动板。本实用新型优点是:底部托盘实现将大尺寸掩膜版包装箱由1.9米降低至1.6米,其转换方式安全高效,提高掩膜版外发运送的安全性与时效性;底部缓冲垫上设置的凹槽用于卡住PVC内箱的轮子,使得PVC内箱内的掩膜版在运送过程中不会颠坡震动而遭到破坏;托盘中间部分的卡槽用于方便叉车对包装的运转,活动板的设置为可开合,方便操作人员上下装卸掩膜版;凸棱和外箱用以保护掩膜版内箱减少左右横向摇晃,保证了掩膜版的安全性。

技术领域

本实用新型涉及掩膜版制作技术领域,具体涉及一种用于大尺寸线掩膜版的转运包装。

背景技术

光掩膜版也称为Mask,俗称光罩,是用于平板显示、集成电路等制造的重要模具,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。其主要流程是通过光刻设备描绘出所需的各种设计几何图形,通过显影制程,去除掉基板上不需要的光阻材料,再通过蚀刻制程,去除掉不被光阻覆盖的铬膜,再通过脱膜液去除残留下来的光阻,最后在基板上形成所设计图形效果,整个图形构成透光和不透光的区域。

掩膜版是光刻复制图形的基准和蓝本,光刻掩膜版上的任何缺陷都会对最终图形精度都会有较大影响,并直接影响最终制品的优品率。在掩膜版的制造及后续的储运、安装过程时,涉及到大量要搬运掩膜版、掩膜版玻璃基板的环节,传统的做法是由操作人员用手动的方式对掩膜版、掩膜版玻璃基板进行抓取、转运或搬运。随着显示面板尺寸的不断增大,掩膜版尺寸也随之增大,目前8.5代TFT-LCD掩膜版尺寸为1220mm×14000mm×13mm,传统的搬运方式也不再适用。同时,产品尺寸增大后,对脏污、颗粒等缺陷的要求更加严格,传统手动的方式会对产品带来更大的品质风险。

大尺寸掩膜版在生产过程中,一般需要采用将掩膜版垂直放置的方式进行运输。同时,掩膜版的运输需要进行保护,有专门的遮光、防尘、防静电的包装箱装运。目前,大尺寸掩膜版包装箱的放置方式一般设计为竖直放置,包装箱底部设置有可以活动的轮子。由于大尺寸掩膜版尺寸较大,其包装箱尺寸也较大,航空运输与时效要求,外包装太大会产生相应的风险,包装箱加上其中掩膜版的重量已经不再适用一般的方式进行包装运送。

因此,需要设计一种用于大尺寸线掩膜版的转运包装,目的在于,解决现有技术中大尺寸掩膜版产品包装尺寸超过航空物流要求的缺陷。

实用新型内容

本实用新型目的在于解决现有技术中大尺寸掩膜版产品包装尺寸超过航空物流要求的问题。

本实用新型通过下述技术方案实现:

一种用于大尺寸线掩膜版的转运包装,包括外箱、箱盖和托盘,所述外箱的上方设置有箱盖,所述外箱的下方设置有托盘,所述外箱与托盘可拆卸连接,所述托盘的一侧设置可开合的活动板。

现有技术是大尺寸掩膜版包装箱的放置方式一般设计为竖直放置,包装箱底部设置有可以活动的轮子,因此,为了配合大尺寸掩膜版在生产过程中竖直运输的方式,但现有中大尺寸掩膜版产品包装尺寸超过航空物流要求而做出的调整;由于大尺寸掩膜版尺寸较大,其包装箱尺寸也较大,包装箱加上其中掩膜版的重量已经不再适用一般的方式进行包装运送,但是由于航空运输与时效要求,外包装太大会产生相应的风险。

本实用新型的外箱与托盘可拆卸连接,并在托盘的一侧设置可开合活动板,开合活动板可以方便叉车对包装的运转,活动板的设置为可开合,打开活动板,使得包裹掩膜版的内箱充分暴露,方便操作人员上下装卸掩膜版。

进一步的,托盘的一侧有缺口,所述缺口与活动板铰接;

所述活动板与托盘的一侧铰接或可拆卸式连接。

进一步的,托盘的内底铺设有缓冲垫,所述缓冲垫为泡沫垫,泡沫垫上设置有四个凹槽,所述凹槽用于卡装掩膜版内箱上的轮子;

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