[实用新型]一种防污液溢出的清洗基站有效
申请号: | 202023022298.6 | 申请日: | 2020-12-14 |
公开(公告)号: | CN216495136U | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 邱君武 | 申请(专利权)人: | 宁波方太厨具有限公司 |
主分类号: | A47L11/40 | 分类号: | A47L11/40 |
代理公司: | 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 | 代理人: | 徐雪波;邓青玲 |
地址: | 315336 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防污 溢出 清洗 基站 | ||
1.一种防污液溢出的清洗基站,包括机体,机体内形成有清洗槽,机体上开有便于待清洗物进入清洗槽的开口,机体上设有能引导待清洗物自所述开口进入所述清洗槽的引导板,其特征在于:所述机体内设有污水收集槽,所述引导板上开有沥水孔,沥水孔与所述污水收集槽连通。
2.根据权利要求1所述的清洗基站,其特征在于:所述引导板包括靠近所述开口的第一引导板和靠近所述清洗槽的第二引导板,第一引导板和第二引导板相互连接,所述沥水孔设置在第二引导板上;所述污水收集槽位于所述第二引导板下方。
3.根据权利要求1所述的清洗基站,其特征在于:所述引导板包括中部设有开孔的基板,以及设置在基板开孔处的通污水板,所述沥水孔设置在通污水板上;所述污水收集槽位于所述通污水板下方。
4.根据权利要求1所述的清洗基站,其特征在于:所述引导板整体倾斜设置,且引导板与清洗槽连接部位的位置高于与开口处连接部位的位置。
5.根据权利要求1所述的清洗基站,其特征在于:所述沥水孔设有多个,呈阵列分布,阵列分布要求为:
在横向上,第N+1列沥水孔的长度为L,第N列沥水孔和第N+2列沥水孔之间的距离为△L,要求L>△L;N为自然数;
在纵向上,第M+1行沥水孔的宽度为W,第M行沥水孔和M+2行沥水孔之间的距离为△W,要求W<△W,M为自然数。
6.根据权利要求1~5中任意一项权利要求所述的清洗基站,其特征在于:所述清洗槽内连通有清水注入管道和污水排出管道;所述污水收集槽与所述清洗槽连通。
7.根据权利要求6所述的清洗基站,其特征在于:所述污水收集槽通过连接槽与所述清洗槽连通。
8.根据权利要求7所述的清洗基站,其特征在于:所述清洗槽与所述连接槽连通处设有隔板。
9.根据权利要求8所述的清洗基站,其特征在于:所述隔板转动连接在清洗槽与连接槽的连通处。
10.根据权利要求7所述的清洗基站,其特征在于:令清洗槽最低点距离壳体最低面的距离为H1,令污水收集槽最低点距离壳体最低面的距离为H2,令连接槽距离壳体最低面的距离为H3,要求H1<H3≤H2。
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