[实用新型]一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构有效
申请号: | 202023036226.7 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN214243804U | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 苏富琨;余光明;戴荣昌;曾朵清 | 申请(专利权)人: | 福建雅鑫电子材料有限公司 |
主分类号: | B67D7/78 | 分类号: | B67D7/78;B67D7/02;H01L21/67 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 许娆 |
地址: | 365050 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 蚀刻 系统 原料 机构 | ||
本实用新型公开了一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构,涉及半导体生产加工用相关设备技术领域。本实用新型包括出料机构主体,出料机构主体包括收集箱、收集仓和增压泵,且增压泵、收集仓分别贯穿连接于收集箱一端以及上端中部,收集箱另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管,且供料管前端连接有螺管,收集仓两侧中部连接有滑动组件,且滑动组件包括第一支架和第二支架,第一支架以及其外侧第二支架内侧中央位置通过滑槽滑动连接有滑块,且滑块端部与滑槽内端部侧壁之间抵触连接。本实用新型通过设置滑动组件和出料机构主体结构,具有便于使用,提高混酸系统工作效率的优点。
技术领域
本实用新型属于半导体用相关设备技术领域,特别是涉及一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构。
背景技术
半导体产业包含印刷电路板、光伏、液晶面板、集成电路等等,半导体在进行生产加工的过程中需对其进行蚀刻处理,混酸系统则是进行蚀刻液的制备设备,原料罐属于混酸系统中结构,目前,原料罐在进行出料时,一般直接通过出料口进行出料处理,但过多的原料由定出量的出料口排出,耗费时长较大,影响原料罐的二次供料效率,或用于原料罐的出料机构使用效果不理想,满足不了使用需求,局限性较大,因此有必要进行改进,以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构,通过设置滑动组件和出料机构主体,解决了现有原料罐在进行出料时,一般直接通过出料口进行出料处理,但过多的原料由定出量的出料口排出,耗费时长较大,影响原料罐的二次供料效率,或用于原料罐的出料机构使用效果不理想,满足不了使用需求的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型是通过以下技术方案实现的:
本实用新型为一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构,包括出料机构主体,所述出料机构主体包括收集箱、收集仓和增压泵,且增压泵、收集仓分别贯穿连接于收集箱一端以及上端中部,所述收集箱另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管,且供料管前端连接有螺管,所述收集仓两侧中部连接有滑动组件,且滑动组件包括第一支架和第二支架,所述第一支架以及其外侧第二支架内侧中央位置通过滑槽滑动连接有滑块,且滑块端部与滑槽内端部侧壁之间抵触连接。
进一步地,所述收集箱分别通过气管、进料管以及出料管与增压泵、收集仓和供料管连接,且气管、出料管分别连接于收集箱前后端中部,进料管端部分别与收集箱、收集仓一端中部贯穿连接,由气管、进料管以及出料管进行增压泵的供压以及原料的进出作业,通过增压泵增压进行收集箱内部原料向外界混酸槽内部的输送,降低其对收集箱内部空间的占用,以及损坏概率。
进一步地,所述气管、进料管以及出料管分别通过一端连接的法兰盘与气口、进料口和出料口之间螺纹连接,且气口、出料口以及进料口分别开设于收集箱前后端中部以及上中部,法兰盘上边缘等距离螺纹贯穿连接有紧固螺栓,由紧固螺栓对法兰盘进行结构连接,通过定位后的法兰盘用于气管、进料管以及出料管结构的连接,采用螺纹连接的方式,便于进行其结构的拆装检修。
进一步地,所述收集仓内上部中央位置通过固定块连接有电磁阀门,且固定块焊接连接于电磁阀门前后端中部,收集仓周表面上部与外界原料罐内侧壁紧密贴合设置,通过固定块对电磁阀门进行在收集仓内上部结构的连接,由电磁阀门对收集仓进行开关作业,并将收集仓周表面上部与外界原料罐内侧壁紧密贴合设置,避免原料发生渗漏。
进一步地,所述滑块之间通过螺孔、螺柱螺纹固定连接,且螺孔开设于滑块外中部,所述螺柱端部螺纹连接于螺孔内中部,且螺柱上下端中部呈对外凸起设置,由螺孔与螺柱之间结构的螺纹连接,用于滑块之间结构的连接固定,采用螺纹连接的方式,便于对其进行结构拆装检修或更换。
本实用新型具有以下有益效果:
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