[实用新型]晶圆双面清洗设备

权利要求书

1.一种晶圆双面清洗设备，其特征在于，包括：晶圆承载装置、第一清洗组件及第二清洗组件，晶圆承载装置用于承载晶圆，第一清洗组件及第二清洗组件用于对晶圆的两个待清洗表面进行清洗；所述第一清洗组件及第二清洗组件均包括海绵刷、氨水供应装置及去离子水供应装置，所述氨水供应装置位于所述海绵刷背离待清洗晶圆的一侧，且所述氨水供应装置与氨水供应源相连接；所述去离子水供应装置与所述海绵刷相邻，用于将去离子水供应至所述海绵刷，且所述去离子水供应装置与去离子水供应源相连接。

2.根据权利要求1所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述海绵刷为圆筒状结构，所述去离子水供应装置嵌设于所述海绵刷内。

3.根据权利要求1所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述氨水供应装置包括氨水供应管路及设置于所述氨水供应管路上的多个喷嘴，所述多个喷嘴沿平行晶圆径向的方向间隔排布于所述氨水供应管路上。

4.根据权利要求1所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述去离子水供应装置包括去离子水管路，所述去离子水管路上设置有喷嘴。

5.根据权利要求4所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述喷嘴为多个，多个喷嘴在所述去离子水管路的表面呈多行多列排布。

6.根据权利要求1所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述海绵刷、氨水供应装置及去离子水供应装置的长度均不小于晶圆的直径。

7.根据权利要求1所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述晶圆承载装置包括多个滚轴，所述多个滚轴间隔分布，待清洗的晶圆被所述多个滚轴夹持住。

8.根据权利要求1所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述海绵刷包括PVA海绵刷，所述海绵刷表面设置有凸点结构。

9.根据权利要求1所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述晶圆双面清洗设备还包括旋转装置，与所述晶圆和/或所述海绵刷相连接。

10.根据权利要求1-9任一项所述的晶圆双面清洗设备，其特征在于，所述晶圆双面清洗设备还包括UV灯，用于对晶圆进行干燥。