[实用新型]包含DFB镭射镜面镀膜的DFB镭射结构

权利要求书

1.一种包含DFB镭射镜面镀膜的DFB镭射结构，所述DFB镭射结构包含基板(1)、缓冲层(2)、有源层(3)、光栅层(4)、上波导层(5)、上披覆层(6)以及上、下两面电极，其特征在于：所述DFB镭射结构中还包含位于前出光端面的AR低反射镀膜区域(8)和位于后出光端面的HR高反射镀膜区域(7)，且所述AR低反射镀膜区域(8)和HR高反射镀膜区域(7)以氮化铝作为镀膜材料镀制而成。

2.如权利要求1所述的DFB镭射结构，其中所述AR低反射镀膜区域(8)和HR高反射镀膜区域(7)通过电子枪蒸镀、浆磁控辅助溅镀或原子层沉积方式制成。

3.如权利要求1所述的DFB镭射结构，其中所述AR低反射镀膜区域(8)位于DFB镭射结构的前出光端面处，厚度介于10-200nm，反射率1％，其为单层结构、双层结构或多层结构，所述单层结构以氮化铝作为镀膜材料镀制而成；所述双层结构包含第一层结构(81)和第二层结构(82)，其中第一层结构(81)为氮化铝镀层，第二层结构(82)由折射率小于氮化铝的材料镀成，每一层的厚度满足1/4该介质波长的奇数倍；所述多层结构由位于内侧的氮化铝镀层和位于外侧的两层以上由折射率小于氮化铝的材料制成的镀层堆叠而成，每一层的厚度满足1/4该介质波长的奇数倍；

其中所述HR高反射镀膜区域(7)位于DFB镭射结构的后出光端面处，反射率95％，其为双层结构或多层结构，所述双层结构包含第三层结构(71)和第四层结构(72)，其中第三层结构(71)为氮化铝镀层，第四层结构(72)由折射率小于氮化铝的材料镀成，每一层的厚度满足1/4该介质波长的奇数倍；所述多层结构由上述第三层结构(71)和第四层结构(72)反覆多层堆叠而形成，每层的厚度为0.1-1μm，且满足1/4该介质波长的奇数倍。

4.如权利要求3所述的DFB镭射结构，其中所述折射率小于氮化铝的材料为SiO₂、SiON或Al₂O₃。

5.如权利要求1所述的DFB镭射结构，其特征在于：所述DFB镭射结构经过制程后定义出脊状波导。

6.如权利要求1所述的DFB镭射结构，其中所述基板(1)为InP基底。

7.如权利要求1所述的DFB镭射结构，其中所述光栅层(4)含有1/4相位移结构。