[实用新型]旋转式多靶材磁控溅射阴极有效
| 申请号： | 202023140752.8 | 申请日： | 2020-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN214088645U | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 李伟 | 申请（专利权）人： | 长沙元戎科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 石家庄领皓专利代理有限公司 13130 | 代理人： | 张杏珍 |
| 地址： | 410300 湖南省长沙市浏阳市经济技术*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 旋转 式多靶材 磁控溅射 阴极 | ||
1.旋转式多靶材磁控溅射阴极，其特征在于，包括阳极(1)及磁铁组件(2)，所述阳极(1)上开设有溅射孔(5)，所述磁铁组件(2)与所述阳极(1)之间设置有靶材支架(4)及一组靶材(3)，所述溅射孔(5)与所述靶材(3)之间形成溅射区，所述靶材(3)设置在所述靶材支架(4)上，所述靶材(3)与所述磁铁组件(2)大小适配，任一所述靶材(3)借助所述靶材支架(4)旋转至所述溅射区。
2.根据权利要求1所述的旋转式多靶材磁控溅射阴极，其特征在于，所述靶材支架(4)呈圆形托盘状，所述靶材(3)沿圆周方向设置在所述靶材支架(4)顶部，所述阳极(1)接地设置，所述溅射孔(5)设置有一组，所述溅射孔(5)与所述靶材(3)一一相对。
3.根据权利要求1所述的旋转式多靶材磁控溅射阴极，其特征在于，还包括定位旋转架(6)，所述定位旋转架(6)与所述靶材支架(4)同轴设置，所述定位旋转架(6)与所述靶材支架(4)固定连接。
4.根据权利要求3所述的旋转式多靶材磁控溅射阴极，其特征在于，所述定位旋转架(6)与所述靶材支架(4)均设置有降温流道，所述靶材支架(4)的材质为无氧铜。
5.根据权利要求1所述的旋转式多靶材磁控溅射阴极，其特征在于，还包括屏蔽罩(7)，所述屏蔽罩(7)呈帽状结构，固定接地设置在所述阳极(1)一侧，所述屏蔽罩(7)上开设有溢溅孔(8)，所述溢溅孔(8)呈圆形，所述溢溅孔(8)与所述磁铁组件(2)正对设置，所述溢溅孔(8)的直径大于所述溅射孔(5)的直径。
6.根据权利要求1所述的旋转式多靶材磁控溅射阴极，其特征在于，所述磁铁组件(2)包括中心磁铁及外圈磁铁，所述中心磁铁与所述外圈磁铁磁极相反。
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