[实用新型]一种立式铣床有效
申请号: | 202023147004.2 | 申请日: | 2020-12-24 |
公开(公告)号: | CN214920785U | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 浙江一诺浩永精密机械有限公司 |
主分类号: | B23C1/06 | 分类号: | B23C1/06;B23C9/00;B23Q3/06;B23Q5/28;B23Q11/00;B08B1/04 |
代理公司: | 嘉兴尚正专利代理事务所(普通合伙) 33467 | 代理人: | 郝艳平 |
地址: | 314300 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 立式 铣床 | ||
本实用新型公开了一种立式铣床,包括:操作平台,所述操作平台内下壁面两侧分别开设有通槽,所述操作平台内下壁面开设有滑槽一,两个所述滑块一分别可滑动的设置于操作平台上壁面的两侧,所述滑杆的两端设置于两个所述滑块一之间,所述滑杆的上壁面开设有滑槽二,所述清洗装置可滑动的设置于滑杆的外壁面上,该立式铣床可避免在加工完成后,铁屑、冷却液残留在操作平台的滑槽内,难以清理干净,残留物较多,长此以往,易造成铣床平台锈蚀的问题。
技术领域
本实用新型涉及机械加工设备技术领域,具体为一种立式铣床。
背景技术
立式铣床是一种由十字滑台、加工刀具与操作平台安装而成而成的设备,通过操作平台控制加工刀具轴的移动与定位,利用转动中的刀具对十字滑台上的加工工件进行切割加工,在加工完成后,铁屑、冷却液残留在加工平台的凹槽内,通常是通过人工手持刷子进行清理,但难以清理干净,残留物较多,长此以往,易造成铣床平台锈蚀,针对以上问题,遂有本案产生。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种立式铣床,以解决现有技术中在加工完成后,铁屑、冷却液残留在操作平台的滑槽内,难以清理干净,残留物较多,易造成铣床平台锈蚀的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种立式铣床,包括:操作平台、通槽、滑槽一、导流管、滑块一、滑杆、滑槽二、清洗装置,所述操作平台内下壁面两侧分别开设有通槽,所述操作平台内下壁面开设有滑槽一,且滑槽一位于通槽之间,所述导流管的顶端设置于操作平台的下壁面,且导流管与通槽位置相对应,所述滑块一的数量为两个,两个所述滑块一分别可滑动的设置于操作平台上壁面的两侧,所述滑杆的两端设置于两个所述滑块一之间,所述滑杆的上壁面开设有滑槽二,所述清洗装置可滑动的设置于滑杆的外壁面上。
优选的,所述滑块一的内下壁面设置有滚轮。
优选的,所述清洗装置包括:滑块二、电机、轴套、挡板、轴杆、固定杆、滚刷、刷片、固定板、弹簧、拉板、螺栓,所述滑块二可滑动的设置于滑杆的外壁面上,所述滑块二的前壁面开设有螺纹孔,所述电机设置于滑块二的上壁面,且电机的驱动端延伸出滑块二的内下壁面,所述轴套的顶端设置于滑块二的内下壁面,且位于滑槽二内,所述挡板设置于轴套的外壁面,且位于滑杆的下壁面,所述轴杆可转动的设置于轴套的内腔,且与电机的驱动端相连接,所述固定杆设置于轴杆的底端,所述滚刷的数量为两个,两个所述滚刷对称设置于固定杆的外壁面,所述刷片设置于固定杆的下壁面,所述固定板设置于轴杆的外壁面,所述弹簧设置于轴杆的外壁面,且位于固定板和挡板之间,所述拉板的数量为两个,两个所述拉板对称设置于固定板的上壁面,所述螺栓螺接于滑块二前壁面的螺纹孔内。
优选的,所述滑块二的内左壁面底端和内右壁面底端分别设置有凸块。
优选的,所述固定板下壁面设置有卡块,且卡块宽度等于滑槽一的宽度。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该立式铣床通过滑块一带动滑杆沿操作平台进行滑动,清洗装置将对操作平台内下壁面的滑槽一进行清理,避免滑槽一内残留物较多,长此以往,易造成铣床平台锈蚀的问题。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型清洗装置爆炸示意图;
图3位本实用新型清洗装置主视图。
图中:1、操作平台,2、通槽,3、滑槽一,4、导流管,5、滑块一,6、滑杆,7、滑槽二,8、清洗装置,801、滑块二,802、电机,803、轴套,804、挡板,805、轴杆,806、固定杆,807、滚刷,808、刷片,809、固定板,810、弹簧,811、拉板,812、螺栓,9、滚轮。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江一诺浩永精密机械有限公司,未经浙江一诺浩永精密机械有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202023147004.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。