[实用新型]制备亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种制备亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积装置，其特征是：包括垫盘、托盘、石英窗和垫盘运动机构，垫盘、托盘、冷却盘和石英窗由上至下依次设置，垫盘连接在垫盘运动机构的动力输出端；垫盘内设置有加热装置。

2.根据权利要求1所述的制备亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积装置，其特征是：所述加热装置包括加热块，加热块下方设置有电热阻丝，电热阻丝连接温控仪。

3.根据权利要求1所述的制备亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积装置，其特征是：所述冷却盘内设置有冷却水循环管路。

4.根据权利要求1所述的制备亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积装置，其特征是：所述垫盘运动机构，包括支架、升降转轴、升降机构和旋转机构，升降机构和旋转机构均设置在支架上，升降转轴连接在升降机构上并与旋转机构连接，升降转轴的顶端连接所述垫盘。

5.根据权利要求4所述的制备亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积装置，其特征是：所述升降机构包括升降电机、升降主动齿轮、升降被动齿轮和螺杆，升降电机固定安装在所述支架上，升降主动齿轮安装在升降电机的转轴上，升降被动齿轮与升降主动齿轮啮合并通过升降轴承座安装在支架上，螺杆与升降被动齿轮通过螺纹连接；所述螺杆上端通过轴承安装所述升降转轴。

6.根据权利要求5所述的制备亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积装置，其特征是：所述螺杆上带有轴向的定位槽，定位槽中设置有定位销，定位销固定在支架上。

7.根据权利要求4所述的制备亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积装置，其特征是：所述旋转机构包括旋转电机、旋转主动齿轮和旋转被动齿轮，旋转电机固定安装在所述支架上，旋转主动齿轮安装在旋转电机的转轴上，旋转被动齿轮与旋转主动齿轮啮合并通过旋转轴承座安装在支架上，旋转被动齿轮通过滑键连接在所述升降转轴上。