[实用新型]炉管设备中的晶舟运动机构有效
申请号: | 202023180549.3 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN213958921U | 公开(公告)日: | 2021-08-13 |
发明(设计)人: | 雷海波;敖海林 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/673 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 栾美洁 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 炉管 设备 中的 运动 机构 | ||
1.一种炉管设备中的晶舟运动机构,所述炉管设备包括石英管、基座,所述石英管的底部与所述基座密封连接而形成反应腔室,所述晶舟运动机构包括电机和转盘,所述晶舟固定安装在所述转盘上且位于所述反应腔室内,所述转盘由所述电机驱动而带动所述晶舟旋转,其特征在于,
所述基座的顶面形成有圆形导轨,所述圆形导轨的导轨面由至少两段波浪面首尾相连组成,且所述波浪面的形状和尺寸相同;
所述转盘包括上连接部、导向杆部、下连接部,所述上连接部安装有导轮,所述导轮的数量与所述波浪面的数量相同,所述上连接部的顶部与所述晶舟的底部固定连接,且所述上连接部与所述导向杆部的上端固定连接,所述下连接部与所述电机的输出轴连接,且所述下连接部与所述导向杆部构成滑槽滑轨结构;
在所述导向杆部与所述下连接部发生相对上下运动时,所述导轮与所述波浪面的接触面保持在同一水平面内。
2.根据权利要求1所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述下连接部为环形柱体,所述下连接部的内壁形成有多个滑轨,所述导向杆部位于所述上连接部下方的部分的外壁形成有与所述滑轨配合的滑槽。
3.根据权利要求1所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述下连接部为环形柱体,所述下连接部的内壁形成有多个滑槽,所述导向杆部位于所述上连接部下方的部分的外壁形成有与所述滑槽配合的滑轨。
4.根据权利要求2或3所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述下连接部的高度大于所述导向杆部相对于所述下连接部上下移动的行程长度。
5.根据权利要求1所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述转盘的圆心、所述圆形导轨的圆心和所述电机的输出轴的转轴在同一竖直线上。
6.根据权利要求1所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述上连接部固定安装有连接杆,所述导轮安装在所述连接杆上,相邻连接杆之间的夹角相等。
7.根据权利要求6所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述上连接部呈柱形,所述柱形的外壁固定安装有四根连接杆。
8.根据权利要求6所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述连接杆的中心轴在同一水平面内。
9.根据权利要求1所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述导轮的直径相同。
10.根据权利要求1所述的炉管设备中的晶舟运动机构,其特征在于,所述转盘的下连接部与所述电机的输出轴之间设有带传动机构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造