[实用新型]镀膜系统的供料设备

权利要求书

1.镀膜系统的供料设备，所述供料设备用于为一沉积反应装置供料，以在所述沉积反应装置内沉积镀膜，其特征在于，包括：

一工作载气加热装置，用于为工作载气进行加热；和

一原料提供装置，用于将反应原料转变为气体，其中在工作的过程中，所述工作载气被通入所述工作载气加热装置加热至预定温度，所述反应原料被送入所述原料提供装置转变为气体，进而被加热的所述工作载气和反应原料气体被送入所述沉积反应装置。

2.根据权利要求1所述的镀膜系统的供料设备，其中所述工作载气为惰性气体、氮气或者氟碳气体。

3.根据权利要求1所述的镀膜系统的供料设备，其中所述工作载气加热装置的加热温度与所述沉积反应装置的反应温度一致。

4.根据权利要求1所述的镀膜系统的供料设备，其中所述供料设备进一步包括一混合装置，所述工作载气加热装置连通所述混合装置，所述原料提供装置连通所述混合装置，所述混合装置连通所述沉积反应装置，在工作的过程中，所述工作载气和所述反应原料气体在所述混合装置内混合后进入所述沉积反应装置。

5.根据权利要求4所述的镀膜系统的供料设备，其中所述供料设备进一步包括一缓存稳压装置，所述缓存稳压装置用于稳压、缓存混合后的气体。

6.根据权利要求5所述的镀膜系统的供料设备，其中所述缓存稳压装置包括一稳压罐和一保温部件，所述保温部件用于为所述稳压罐进行保温。

7.根据权利要求5所述的镀膜系统的供料设备，其中所述镀膜系统包括多个稳压罐，分别可控制地连通于所述沉积反应装置。

8.根据权利要求5所述的镀膜系统的供料设备，其中所述缓存稳压装置包括一调压件，所述调压件被选择地设置于所述混合装置、所述缓存稳压装置和/或所述沉积反应装置之间。

9.根据权利要求5所述的镀膜系统的供料设备，其中所述供料设备进一步包括一保温管，所述保温管被选择地连通于所述混合装置、所述缓存稳压装置和/或所述沉积反应装置之间。

10.根据权利要求5-9任一所述的镀膜系统的供料设备，其中所述供料设备进一步包括一分散送气件，所述分散送气件被设置于所述沉积反应装置中，可控制地连通于所述缓存稳压装置。

11.根据权利要求5-9任一所述的镀膜系统的供料设备，其中所述供料设备包括多个分散送气件，多个所述分散送气件分别被设置于所述沉积反应装置的反应腔体的不同高度位置。

12.根据权利要求7所述的镀膜系统的供料设备，其中所述供料设备包括多个分散送气件，多个所述分散送气件分别可控制地连通多个所述稳压罐。

13.根据权利要求4-9任一所述的镀膜系统的供料设备，其中所述沉积反应装置通过多个通道连通所述混合装置。

14.根据权利要求4-9任一所述的镀膜系统的供料设备，其中所述混合装置包括一载气管和原料管，所述载气管和所述原料管内外套接。

15.根据权利要求4-9任一所述的镀膜系统的供料设备，其中所述混合装置包括一载气管和原料管，所述载气管和所述原料管并排地设置。

16.根据权利要求1-9任一所述的镀膜系统的供料设备，其中所述工作载气加热装置包括一进气控制部和一加热室，所述进气控制部控制进入所述加热室的所述工作载气的流量，所述加热室用于为所述工作载气加热升温。