[实用新型]一种处理复杂结构塔内件的电镀装置有效
申请号: | 202023234105.3 | 申请日: | 2020-12-29 |
公开(公告)号: | CN214361806U | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 肖剑鸣;汪文发;陈超 | 申请(专利权)人: | 深圳市诚达科技股份有限公司 |
主分类号: | C25D17/10 | 分类号: | C25D17/10;C25D7/00 |
代理公司: | 北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙) 11382 | 代理人: | 王凤华 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区西丽街道松坪山社*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 处理 复杂 结构 塔内件 电镀 装置 | ||
1.一种处理复杂结构塔内件的电镀装置,包括电解槽(1)、挂具(2)、辅助阳极(3)和正极板(4),其特征在于,所述电解槽(1)为中空腔体,电解槽(1)两侧设置正极板(4),其中,挂具(2)设置于电解槽(1)腔体内,辅助阳极(3)设置于挂具(2)上。
2.根据权利要求1所述的处理复杂结构塔内件的电镀装置,其特征在于,所述辅助阳极(3)为耐腐蚀导电金属材料,材质为钛丝或钛包铜丝的一种。
3.根据权利要求1或2所述的处理复杂结构塔内件的电镀装置,其特征在于,所述辅助阳极(3)中耐腐蚀导电金属材料外壁设置聚四氟乙烯管。
4.根据权利要求3所述的处理复杂结构塔内件的电镀装置,其特征在于,所述聚四氟乙烯管管壁厚度为1~2mm,聚四氟乙烯管管壁表面设置圆孔。
5.根据权利要求4所述的处理复杂结构塔内件的电镀装置,其特征在于,所述圆孔直径为Φ3,所述圆孔为多个并均匀分布。
6.根据权利要求2所述的处理复杂结构塔内件的电镀装置,其特征在于,所述辅助阳极(3)为多个。
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