[实用新型]一种氮化镓半导体生产用的单晶炉有效

专利信息
申请号: 202023235916.5 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN214458451U 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 鲁煜;王祎;刘玉良;姜经理;谭大胜 申请(专利权)人: 浙江中电环境科技有限公司
主分类号: C30B29/40 分类号: C30B29/40;C30B35/00
代理公司: 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 代理人: 王家蕾
地址: 314000 浙江省嘉兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 氮化 半导体 生产 单晶炉
【权利要求书】:

1.一种氮化镓半导体生产用的单晶炉,包括固定框(1)、单晶炉本体(2)、抽气口(5)、搅拌轴(9)和伺服电机(11),其特征在于:所述固定框(1)的内部通过轴承安装有单晶炉本体(2),且单晶炉本体(2)的内部设置有加热管(3),所述单晶炉本体(2)的底端开设有下料槽(7),所述固定框(1)顶端通过轴承安装有贯穿单晶炉本体(2)的第一转轴(8),且第一转轴(8)的外壁皆设置有搅拌轴(9),所述第一转轴(8)的外壁设置有第一锥形齿轮(10),所述单晶炉本体(2)的外壁设置有第二锥形齿轮(12),所述固定框(1)的内侧通过轴承安装有第二转轴(13),所述下料槽(7)的内侧通过轴承安装有第三转轴(15),且第三转轴(15)的外壁设置有密封扇形板(16),所述密封扇形板(16)的外壁与下料槽(7)相匹配,所述第三转轴(15)一侧安装有贯穿单晶炉本体(2)的转扭(17),且转扭(17)的外壁设置有限位槽(18),所述单晶炉本体(2)的一侧安装有滑轨(19),所述单晶炉本体(2)底端的侧壁开设有滑槽(20),且滑槽(20)的内部设置有弹簧(21),所述固定框(1)底端的两侧皆安装有万向轮(23),所述单晶炉本体(2)的一侧安装有观察窗(24)。

2.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的单晶炉,其特征在于:所述固定框(1)的顶端设置有伺服电机(11),且伺服电机(11)输出端通过联轴器与第一转轴(8)的顶端相连接。

3.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的单晶炉,其特征在于:所述单晶炉本体(2)的顶端安装有加料口(6),所述单晶炉本体(2)远离加料口(6)的一侧安装有抽气口(5)。

4.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的单晶炉,其特征在于:所述单晶炉本体(2)的外壁设置有保温层(4),且保温层(4)的内部填充有陶瓷板。

5.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的单晶炉,其特征在于:所述第二转轴(13)的外壁设置有第三锥形齿轮(14),且第三锥形齿轮(14)外壁分别与第一锥形齿轮(10)和第二锥形齿轮(12)的外壁相啮合。

6.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的单晶炉,其特征在于:所述弹簧(21)底端安装有贯穿滑槽(20)的固定块(22),所述固定块(22)外壁与滑轨(19)的内部相匹配。

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