[实用新型]预热激光光源冷却系统

说明书

本实用新型提供了一种预热激光光源冷却系统，包括：用于冷却的管路，包括第一管路和第二管路和第三管路；第一调节阀，设置在所述第一管路上；用于控制所述第一管路中冷却介质的流通和停止流通；第二调节阀，设置在所述第二管路上；用于控制所述第二管路中冷却介质的流通和停止流通；所述第一管路和第二管路之间连接有第三调节阀；所述第三管路上设置在第一管路和第二管路之间，所述第三管路上设置有需要被冷却的预热激光光源。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件制造设备技术领域，特别涉及预热激光光源冷却系统。

背景技术

激光退火工艺，是一项使wafer处于高温条件下，对wafer本身进行退火的工艺，

对晶圆进行高温退火，既可以修复硅片表面晶格缺陷，同时也可以减少表面含氧量。

在其他例如离子扩展，注氧隔离、注氧键合、智能剥离等半导体制造工艺中也需要用到退火工艺。

由于激光退火工艺中最高温度甚至可以达到1200—1350度，冷却水的水温以及流量所以对其至关重要。

实际工艺作业时机台一旦故障或下电，预热激光光源冷却水进水端压力将顶住电磁阀，使其不能正常开启，必须拆开冷却水管道进行泄压后，冷却水管道电磁阀才可以正常工作。但拆卸冷却水管道不仅耗时耗力，还存在有管道漏水的可能性。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是，提供一种方便高效的预热激光光源冷却系统，在电磁阀失效时整个系统仍能正常开启。

为了达到上述目的，本实用新型提供了预热激光光源冷却系统，包括：

用于冷却的管路，包括第一管路和第二管路和第三管路；第一调节阀，设置在所述第一管路上；用于控制所述第一管路中冷却介质的流通和停止流通；第二调节阀，设置在所述第二管路上；用于控制所述第二管路中冷却介质的流通和停止流通；所述第三管路设置在第一管路和第二管路之间，第三调节阀设置在所述第三管路上；用于控制所述第三管路中冷却介质的流通和停止流通；所述第一管路通过一电磁阀与需要被冷却的预热激光光源的一端连接，所述预热激光光源的另一端与所述第二管路连接。

优选地，所述冷却系统采用冷却水循环进行热交换。

优选地，所述第一管路为进水管路，所述第二管路为回水管路。

优选地，所述第一管路中，在第一调节阀和第三调节阀之间设置有压力表。

优选地，所述第二管路中，在第三调节阀和第二调节阀之间设有流量计。

优选地，所述第一调节阀、第二调节阀和第三调节阀为自动阀门或手动阀门。

优选地，所述电磁阀设置在所述冷却介质进入的那一端上。

本实用新型通过在冷却进水与回水管道间设置一段包含调节阀的管路，通过调节阀的开闭解决了在机台故障或下电后，进水端压力顶住电磁阀，不能正常开启冷却回路的问题。

附图说明

图1为本实用新型的预热激光光源冷却系统一较佳实施例的示意图。

附图标记说明

10 第一调节阀 20 第二调节阀

30 第三调节阀 40 电磁阀

50 预热激光光源 60 压力表

70 流量计

81 第一管路 82 第二管路

83 第三管路

具体实施方式