[实用新型]玻璃基板清洁流水线有效
| 申请号： | 202023257291.2 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN214263142U | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 崔智勋 | 申请（专利权）人： | 乐金显示光电科技（中国）有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/04 | 分类号： | B08B11/04;B08B13/00;B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 510530 广东省广州市广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 清洁 流水线 | ||
1.一种玻璃基板清洁流水线，其特征在于，包括第一清洁机构和静电检测机构，所述第一清洁机构设置于所述玻璃基板清洁流水线的末端，所述静电检测机构设置在所述第一清洁机构内部，所述第一清洁机构能清除玻璃基板表面的有机物，所述静电检测机构能检测出所述玻璃基板所携带的静电是否超过允许值。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述第一清洁机构为大气压等离子清洗机或紫外光清洗机。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述玻璃基板清洁流水线还包括第二清洁机构，所述第二清洁机构对所述玻璃基板进行水洗。
4.根据权利要求3所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述第二清洁机构包括冲刷区和喷淋区，所述玻璃基板经过所述冲刷区后再经过所述喷淋区，所述冲刷区的水流喷射压力大于所述喷淋区的水流喷射压力。
5.根据权利要求4所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述第二清洁机构采用去离子水对所述玻璃基板进行清洗。
6.根据权利要求4所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述冲刷区的水流喷射压力不大于5.8kgf/cm2。
7.根据权利要求4所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述玻璃基板清洁流水线还包括第三清洁机构，所述第三清洁机构设置在所述第一清洁机构和所述第二清洁机构之间，所述第三清洁机构对所述玻璃基板进行干燥。
8.根据权利要求7所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述第三清洁机构采用气体或红外线对所述玻璃基板进行干燥。
9.根据权利要求7所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述玻璃基板清洁流水线还包括第四清洁机构，所述第四清洁机构设置在所述第二清洁机构靠近所述玻璃基板清洁流水线前端的一侧，所述第四清洁机构采用刷辊对所述玻璃基板的表面进行清洁。
10.根据权利要求9所述的玻璃基板清洁流水线，其特征在于，所述玻璃基板清洁流水线还包括第五清洁机构，所述第五清洁机构设置在所述玻璃基板清洁流水线的前端，所述第五清洁机构对所述玻璃基板的端面进行研磨。
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