[实用新型]基材浸涂装置

权利要求书

1.一种基材浸涂装置，用于可被卷绕的基材(1)的浸涂，其特征在于：所述基材浸涂装置包括：

基座(2)，于所述基座(2)上设有用于盛放浸涂材料的储料槽(3)；

支架(4)，相邻于所述储料槽(3)设于所述基座(2)上，于所述支架(4)上设有多个以供所述基材(1)依次绕经的支撑辊(5)，且至少其一所述支撑辊(5)可使绕经的所述基材(1)通过所述储料槽(3)而浸涂所述浸涂材料，并于所述支架(4)上设有对浸涂后的所述基材(1)进行后处理的处理机构(9)；

其中，所述支架(4)被配置为位置可调地设于所述基座(2)上，并随所述支架(4)相对于所述基座(2)的位置调整，而使所述基材(1)通过所述储料槽(3)时的浸涂量可变。

2.根据权利要求1所述的基材浸涂装置，其特征在于：所述支架(4)上设有放卷轴(6)和收卷轴(7)，且所述基材(1)被配置为由所述放卷轴(6)处放卷，并依次经各所述支撑辊(5)后，而于所述收卷轴(7)处收卷。

3.根据权利要求2所述的基材浸涂装置，其特征在于：所述放卷轴(6)和所述收卷轴(7)中，至少对应于所述收卷轴(7)设有以驱使该收卷轴(7)转动的电机(8)。

4.根据权利要求1所述的基材浸涂装置，其特征在于：供所述基材(1)通过所述储料槽(3)而浸涂所述浸涂材料的所述支撑辊(5)为并排布置的两个。

5.根据权利要求1所述的基材浸涂装置，其特征在于：所述储料槽(3)内设有以检测所述浸涂材料液位的料位感应器。

6.根据权利要求1所述的基材浸涂装置，其特征在于：所述储料槽(3)内设有以检测所述浸涂材料温度的温度传感器。

7.根据权利要求1所述的基材浸涂装置，其特征在于：所述支架(4)为可转动地设于所述基座(2)上，并由所述支架(4)相对于所述基座(2)的角度变化而构成自身的位置可调。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的基材浸涂装置，其特征在于：所述处理机构(9)具有基材入口、基材出口(901)，以及连通于所述基材入口和所述基材出口(901)之间的基材通道，且所述处理机构(9)中对应于所述基材通道设有对浸涂后的所述基材(1)进行后处理的处理单元。

9.根据权利要求8所述的基材浸涂装置，其特征在于：所述处理单元为可吹扫所述基材(1)的鼓风组件、可加热所述基材(1)的加热组件、可对所述基材(1)处抽真空的真空吸附组件，以及可对清理所述基材(1)表面的清理组件中的一种。

10.根据权利要求8所述的基材浸涂装置，其特征在于：所述处理机构(9)外接有气体回收处理机构。