[实用新型]一种晶片清洗治具有效
申请号: | 202023278615.0 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN214184370U | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 刘胜男;邓天将 | 申请(专利权)人: | 湖南科鑫泰电子有限公司 |
主分类号: | B08B3/14 | 分类号: | B08B3/14;B08B13/00 |
代理公司: | 长沙明新专利代理事务所(普通合伙) 43222 | 代理人: | 徐新 |
地址: | 413000 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶片 清洗 | ||
本实用新型公开了一种晶片清洗治具,包括清洗底座、清洗盘,所述清洗底座呈顶面及一端侧面呈敞口的腔体结构;所述清洗底座侧面敞口处且靠近顶面敞口位置从外向内延伸设有第一安装槽,所述清洗盘装配在第一安装槽内,并覆盖清洗底座顶面的敞口,清洗盘端面阵列分布有用于放置晶片的放置槽;所述清洗底座顶面靠近侧面敞口处从上至下设有第二安装槽,并在第二安装槽内插设有封板,该封板将清洗盘固定在清洗底座内部;所述清洗底座下端面正对清洗盘的位置设有漏水槽。本实用新型在方便将清洗盘安装的同时能够根据需要更换不同规格的清洗盘用于不同规格晶片的清洗,提高清洗治具的适性应。
技术领域
本实用新型涉及石英晶片加工设备技术领域,尤其涉及一种晶片清洗治具。
背景技术
石英晶体不仅具有压电效应,而且还具有优良的机械特性、电学特性和温度特性。利用石英晶体本身的物理特性制作的电子元件,在稳频和选频方面都有突出的优点。随着晶片行业竞争的日趋激烈,如何提高工作效率、降低成本、提高产品品质,以提高在同行业中的竞争力,已经成了每个晶片企业都将面临的难题,而晶片在抛光前或抛光后都需要对其进行清洗,但是传统的清洗治具存在清洗不干净,排水难的问题,而且同一治具只能对同一类规格尺寸的晶片进行清洗,适应性不高。
实用新型内容
本实用新型旨在一定程度上解决上述存在的技术问题,提供一种晶片清洗治具。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种晶片清洗治具,包括清洗底座、清洗盘,所述清洗底座呈顶面及一端侧面呈敞口的腔体结构;所述清洗底座侧面敞口处且靠近顶面敞口位置从外向内延伸设有第一安装槽,所述清洗盘装配在第一安装槽内,并覆盖清洗底座顶面的敞口,清洗盘端面阵列分布有用于放置晶片的放置槽;所述清洗底座顶面靠近侧面敞口处从上至下设有第二安装槽,并在第二安装槽内插设有封板,该封板将清洗盘固定在清洗底座内部;所述封板外部正对清洗盘的位置设有顶杆,顶杆穿过封板与清洗盘螺纹连接;所述清洗底座下端面正对清洗盘的位置设有漏水槽。
优选的,所述清洗底座位于第一安装槽下方的位置设有第三安装槽,所述第三安装槽内装配有过滤装置。采用该结构能够起到防止晶片流失的效果,避免晶片在冲洗时因外部灰尘洗除后其体积变小而从清洗盘上冲走。
优选的,所述清洗底座内部位于过滤装置下方的位置设有导流板。采用该结构在冲洗时的水流通过导流板排出清洗底座内部,避免内部积水。
优选的,所述过滤装置包括过滤盘、过滤网,所述过滤网螺栓安装在过滤盘上,所述过滤盘端面向上延伸设有支撑杆,该支撑杆抵紧清洗盘底面。采用该结构能够方便过滤网的更换,同时通过支撑杆为清洗盘提供支撑力,避免清洗时清洗盘受力变形。
优选的,所述过滤网面积大于清洗盘面积,并覆盖清洗盘。如此保证晶体的过滤效果。
优选的,所述清洗底座顶面围绕敞口设有插槽,并在插槽内插设有挡板。采用该结构在清洗水流冲击力大时可以放置挡板,避免晶片受力飞溅出清洗盘。
优选的,所述清洗底座侧面向外延伸形成安装座。如此能够便于清洗底座的安装固定。
与现有技术相比具有的有益效果为:本实用新型清洗盘通过封板限位在清洗底座内,并与顶杆螺纹连接固定在清洗底座内,待清洗的晶片放置在清洗盘的放置槽上,清洗的水会从清洗底座的漏水槽只排出,从而将清洗治具分为相互组装的部件,便于各部件的拆装更换,而且在方便将清洗盘安装的同时能够根据需要更换不同规格的清洗盘用于不同规格晶片的清洗,提高清洗治具的适性应。
同时本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践到。
附图说明
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