[实用新型]一种超高场发射匀场线圈结构有效

专利信息
申请号: 202023281636.8 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN214252552U 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 魏子栋;钟继凡 申请(专利权)人: 深圳市联影高端医疗装备创新研究院
主分类号: G01R33/387 分类号: G01R33/387
代理公司: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 代理人: 丁倩
地址: 518017 广东省深圳市福田区福*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 超高 发射 线圈 结构
【权利要求书】:

1.一种超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,包括多个偶极子天线单元,多个偶极子天线单元环绕分布在负载的外侧,所述偶极子天线单元包括介质层和偶极子天线,所述偶极子天线设置于所述介质层的一侧,所述介质层远离所述偶极子天线的一侧靠近所述负载设置,其中,至少一个所述偶极子天线单元的介质层具有多层介质。

2.根据权利要求1所述的超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,所述偶极子天线单元按照所述负载的外侧面形状随形排布。

3.根据权利要求1所述的超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,所述具有多层介质的偶极子天线单元设置于超高场点磁场不均匀分布的位置。

4.根据权利要求1所述的超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,每一所述偶极子天线单元对应一发射通道,不同的所述发射通道的幅值和相位可独立调节。

5.根据权利要求4所述的超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,还包括屏蔽件,所述屏蔽件安装于所述偶极子天线单元围成的环形外侧,用于减弱不同的所述发射通道之间的磁场,以降低耦合。

6.根据权利要求5所述的超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,所述屏蔽件为中空环形结构,所述偶极子天线单元围成的环形位于所述屏蔽件的环形内侧。

7.根据权利要求6所述的超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,不同的所述偶极子天线单元与所述屏蔽件的内侧壁的间距相等。

8.根据权利要求5所述的超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,所述屏蔽件包括多个屏蔽帽,所述屏蔽帽的数目不多于所述偶极子天线单元的数目,所述屏蔽帽一一对应的罩设于所述偶极子天线单元的外侧,不同的所述偶极子天线单元与对应的所述屏蔽帽的内侧壁的间距相等。

9.根据权利要求1所述的超高场发射匀场线圈结构,其特征在于,所述偶极子天线单元为条状,所述偶极子为规则的条状结构或者为至少部分呈弯曲状的不规则蛇形结构,所述偶极子天线单元的馈电端口设置于所述偶极子的中部位置。

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