[实用新型]一种硅片分片装置及系统有效

专利信息
申请号: 202023282554.5 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN214505445U 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 詹月琴;杨松 申请(专利权)人: 曲靖隆基硅材料有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 王胜利
地址: 655000 云南省曲*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 分片 装置 系统
【说明书】:

实用新型公开一种硅片分片装置及系统,涉及半导体制造技术领域,用于在将硅片由硅片叠层上逐片传送的过程中,避免相邻两片硅片的棱边由于相互碰撞而产生破损。该传送机构传送机构、顶升机构及吸附板。吸附板具有吸附面,吸附面用于提供向上吸附硅片的吸附力。传送机构设在吸附板上,传送机构具有用于传送硅片的传送面,传送面与吸附面沿硅片堆叠方向上间隔排列,且传送面位于靠近所述硅片一侧。顶升机构,用于调整传送面与硅片叠层之间的距离,使传送面以预设频率传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离减小的情况下,传送面传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离增大的情况下,传送面与硅片分离。上述硅片分片系统包括该硅片分片装置。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种硅片分片装置及系统。

背景技术

光伏发电作为绿色能源以及人类可持续发展的主要能源的一种。单晶硅片作为光伏发电的一种基础材料,有着广泛的市场需求。

目前,对硅晶棒进行切片后,需要对硅片进行清洗,否则硅片表面的污染物会影响半导体器件的性能。一般情况下,对硅片进行清洗前,需要将硅片逐片插入花篮里。在将硅片逐片插入花篮的过程中,需要利用硅片分片装置将硅片逐片由硅片叠层上吸附后,再通过传送装置将吸附在硅片分片装置上的硅片传送至花篮处。

现有技术中心,硅片分片装置在吸附硅片的过程中,相邻两片硅片的间距较小,甚至相邻两片硅片之间会出现重合的部分,使相邻两片硅片由于碰撞而产生棱边破损,导致硅片的破损率较高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅片分片装置及系统,用于在将硅片叠层上的硅片逐片传送的过程中,避免相邻两片硅片的棱边由于相互碰撞而产生破损。

第一方面,本实用新型提供一种硅片分片装置,用于从硅片叠层分离硅片。该硅片分片装置包括:传送机构、顶升机构及吸附板。吸附板具有吸附面,吸附面用于提供向上吸附硅片的吸附力。传送机构设在吸附板上,传送机构具有用于传送硅片的传送面,传送面与吸附面沿硅片堆叠方向上间隔排列,且传送面位于靠近所述硅片一侧。顶升机构,用于调整传送面与硅片叠层之间的距离,使传送面以预设频率传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离减小的情况下,传送面传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离增大的情况下,传送面与硅片分离。

采用上述技术方案的情况下,硅片分片装置包括顶升机构、吸附板及设在吸附板上的传送机构。其中,吸附板具有吸附面,吸附面用于提供向上吸附硅片的吸附力。传送机构具有用于传送硅片的传送面,述传送面与吸附面沿硅片堆叠方向上间隔排列,且传送面位于靠近硅片一侧。顶升机构用于调整传送面与硅片叠层之间的距离,使传送面以预设频率传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离减小的情况下,传送面可以吸附位于硅片叠层顶层的硅片,使传送面可以将吸附在传送面上的硅片传送至下一个工位;在传送面与硅片叠层之间的距离增大的情况下,传送面将无法吸附位于硅片叠层顶层的硅片,即传送面与硅片分离。当传送面再次与硅片叠层之间的距离再次减小的情况下,传送面可以再次吸附位于硅片叠层顶层的硅片。如此循环往复,直至将硅片叠层中的硅片全部传送完毕,便可以使硅片叠层中的硅片逐一分离。

由上述可知,上述硅片分片装置的传送面上一次只能吸附一片硅片,且传送面以预设频率传送硅片。即:该硅片分片装置可以逐片、间隔的传送上述硅片叠层中的硅片。基于硅片分片装置逐片、间隔的传送硅片,可以避免相邻两片硅片的棱边在传送过程中相互碰撞而产生破损,以降低硅片的破损率。

在一种可能的实现方式中,顶升机构具有以预设频率凸出传送面的顶升端,顶升端用于调整传送面与硅片叠层之间的距离,使传送面以预设频率传送硅片。

在一种可能的实现方式中,传送机构包括沿硅片的传送方向分布的多组滚动组件,多组滚动组件安装在吸附板上,多组滚动组件通过带传动的方式连接。

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