[实用新型]一种硅片分片装置及系统有效
申请号: | 202023282554.5 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN214505445U | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 詹月琴;杨松 | 申请(专利权)人: | 曲靖隆基硅材料有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人: | 王胜利 |
地址: | 655000 云南省曲*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 分片 装置 系统 | ||
本实用新型公开一种硅片分片装置及系统,涉及半导体制造技术领域,用于在将硅片由硅片叠层上逐片传送的过程中,避免相邻两片硅片的棱边由于相互碰撞而产生破损。该传送机构传送机构、顶升机构及吸附板。吸附板具有吸附面,吸附面用于提供向上吸附硅片的吸附力。传送机构设在吸附板上,传送机构具有用于传送硅片的传送面,传送面与吸附面沿硅片堆叠方向上间隔排列,且传送面位于靠近所述硅片一侧。顶升机构,用于调整传送面与硅片叠层之间的距离,使传送面以预设频率传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离减小的情况下,传送面传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离增大的情况下,传送面与硅片分离。上述硅片分片系统包括该硅片分片装置。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种硅片分片装置及系统。
背景技术
光伏发电作为绿色能源以及人类可持续发展的主要能源的一种。单晶硅片作为光伏发电的一种基础材料,有着广泛的市场需求。
目前,对硅晶棒进行切片后,需要对硅片进行清洗,否则硅片表面的污染物会影响半导体器件的性能。一般情况下,对硅片进行清洗前,需要将硅片逐片插入花篮里。在将硅片逐片插入花篮的过程中,需要利用硅片分片装置将硅片逐片由硅片叠层上吸附后,再通过传送装置将吸附在硅片分片装置上的硅片传送至花篮处。
现有技术中心,硅片分片装置在吸附硅片的过程中,相邻两片硅片的间距较小,甚至相邻两片硅片之间会出现重合的部分,使相邻两片硅片由于碰撞而产生棱边破损,导致硅片的破损率较高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种硅片分片装置及系统,用于在将硅片叠层上的硅片逐片传送的过程中,避免相邻两片硅片的棱边由于相互碰撞而产生破损。
第一方面,本实用新型提供一种硅片分片装置,用于从硅片叠层分离硅片。该硅片分片装置包括:传送机构、顶升机构及吸附板。吸附板具有吸附面,吸附面用于提供向上吸附硅片的吸附力。传送机构设在吸附板上,传送机构具有用于传送硅片的传送面,传送面与吸附面沿硅片堆叠方向上间隔排列,且传送面位于靠近所述硅片一侧。顶升机构,用于调整传送面与硅片叠层之间的距离,使传送面以预设频率传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离减小的情况下,传送面传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离增大的情况下,传送面与硅片分离。
采用上述技术方案的情况下,硅片分片装置包括顶升机构、吸附板及设在吸附板上的传送机构。其中,吸附板具有吸附面,吸附面用于提供向上吸附硅片的吸附力。传送机构具有用于传送硅片的传送面,述传送面与吸附面沿硅片堆叠方向上间隔排列,且传送面位于靠近硅片一侧。顶升机构用于调整传送面与硅片叠层之间的距离,使传送面以预设频率传送硅片。在传送面与硅片叠层之间的距离减小的情况下,传送面可以吸附位于硅片叠层顶层的硅片,使传送面可以将吸附在传送面上的硅片传送至下一个工位;在传送面与硅片叠层之间的距离增大的情况下,传送面将无法吸附位于硅片叠层顶层的硅片,即传送面与硅片分离。当传送面再次与硅片叠层之间的距离再次减小的情况下,传送面可以再次吸附位于硅片叠层顶层的硅片。如此循环往复,直至将硅片叠层中的硅片全部传送完毕,便可以使硅片叠层中的硅片逐一分离。
由上述可知,上述硅片分片装置的传送面上一次只能吸附一片硅片,且传送面以预设频率传送硅片。即:该硅片分片装置可以逐片、间隔的传送上述硅片叠层中的硅片。基于硅片分片装置逐片、间隔的传送硅片,可以避免相邻两片硅片的棱边在传送过程中相互碰撞而产生破损,以降低硅片的破损率。
在一种可能的实现方式中,顶升机构具有以预设频率凸出传送面的顶升端,顶升端用于调整传送面与硅片叠层之间的距离,使传送面以预设频率传送硅片。
在一种可能的实现方式中,传送机构包括沿硅片的传送方向分布的多组滚动组件,多组滚动组件安装在吸附板上,多组滚动组件通过带传动的方式连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造