[实用新型]一种氧化硅干法刻蚀机冷却监控报警装置有效
申请号: | 202023284607.7 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN213752644U | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 孙及 | 申请(专利权)人: | 上海悦匠实业有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683;G01D21/02 |
代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 张宁展 |
地址: | 201600 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 硅干法 刻蚀 冷却 监控 报警装置 | ||
本实用新型公开一种氧化硅干法刻蚀机冷却监控报警装置,氧化硅干法刻蚀机包括置于工艺腔体内的大气气压传感器、主机和工艺腔体执行机构,装置包括AC电源、AC/DC转换器、温度传感器、流量传感器、温度报警旁路开关、流量报警旁路开关和报警器,温度传感器和流量传感器设置在工艺腔体对应的回水管的回水口处;AC电源与AC/DC转换器电连接,AC/DC转换器分别与温度传感器和流量传感器电连接,温度传感器与温度报警旁路开关电连接,流量传感器与流量报警旁路开关电连接,温度报警旁路开关和流量报警旁路开关均与大气气压传感器电连接,大气气压传感器、报警器和工艺腔体执行机构均与主机电连接。
技术领域
本实用新型涉及氧化硅干法刻蚀机技术领域,特别是涉及一种氧化硅干法刻蚀机冷却监控报警装置,用于氧化硅干法刻蚀机的工艺腔体内静电吸附盘的温度检测及报警。
背景技术
氧化硅干法刻蚀机在工艺制作时承载硅片的静电吸附盘需要制冷设备对其进行冷却,而一旦冷却液断供或冷却温度超差,氧化硅干法刻蚀机无法及时中断工艺制作就会造成损失。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术存在的问题和不足,提供一种氧化硅干法刻蚀机冷却监控报警装置。
本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:
本实用新型提供一种氧化硅干法刻蚀机冷却监控报警装置,所述氧化硅干法刻蚀机包括置于工艺腔体内的大气气压传感器、主机和工艺腔体执行机构,其特点在于,所述装置包括AC电源、AC/DC转换器、温度传感器、流量传感器、温度报警旁路开关、流量报警旁路开关和报警器,所述温度传感器和流量传感器设置在工艺腔体对应的回水管的回水口处;
所述AC电源与AC/DC转换器电连接,所述AC/DC转换器分别与温度传感器和流量传感器电连接,所述温度传感器与温度报警旁路开关电连接,所述流量传感器与流量报警旁路开关电连接,所述温度报警旁路开关和流量报警旁路开关均与大气气压传感器电连接,所述大气气压传感器、报警器和工艺腔体执行机构均与主机电连接。
较佳地,所述装置还包括显示器和控制器,所述温度传感器、流量传感器和显示器均与控制器电连接。
较佳地,所述报警器采用蜂鸣器。
在符合本领域常识的基础上,上述各优选条件,可任意组合,即得本实用新型各较佳实例。
本实用新型的积极进步效果在于:
本实用新型提供的实时监测工艺腔体内的温度及冷却液的实时流量,当温度或流量数值超差后终止当前工艺进程以免造成损失。
附图说明
图1为本实用新型较佳实施例的氧化硅干法刻蚀机冷却监控报警装置的控制原理图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1所示,本实施例提供一种氧化硅干法刻蚀机冷却监控报警装置,所述氧化硅干法刻蚀机包括置于工艺腔体内的大气气压传感器1、主机2和工艺腔体执行机构3,所述装置包括AC电源4、AC/DC转换器5、温度传感器6、流量传感器7、温度报警旁路开关8、流量报警旁路开关9和报警器10,所述温度传感器6和流量传感器7设置在工艺腔体对应的回水管的回水口处,所述报警器10采用蜂鸣器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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