[实用新型]灯检机排水系统有效

专利信息
申请号: 202023301868.5 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN214784486U 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 李明勇;蒋涛;何柳;张欢 申请(专利权)人: 成都泓睿科技有限责任公司
主分类号: E03F1/00 分类号: E03F1/00;E03F5/04;E03F5/10;G01N21/88;G01N21/958
代理公司: 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 代理人: 陈仁平
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 灯检机 排水系统
【说明书】:

实用新型公开了一种灯检机排水系统,属于灯检机领域,提供一种能够实现对灯检机清洗污水进行集中收集并排水的灯检机排水系统,其包括支撑架和底座盖板,所述底座盖板安装于支撑架上,底座盖板的四周边沿设置有向上的挡边,在底座盖板上设置有至少一个地漏,在地漏下端设置有排水管道。本实用新型通过设置相应的挡边结构,这样利用挡边可在底座盖板上形成具有一定拦挡作用的槽结构,以起到对水的拦挡作用;同时通过设置相应的地漏、排水管道等结构后,可通过地漏及排水管道实现集中排水,这样即可有效地避免设备清洗产生的污水直接溢流到设备四周的安装地面的情况。

技术领域

本实用新型涉及灯检机领域,尤其涉及一种灯检机排水系统。

背景技术

灯检机一般为用于对产品进行灯检操作的设备,一般用于对瓶体类产品的检测,例如用于输液瓶、安瓿瓶等产品。为了便于灯检机设备的清洗,一般会采用冲洗的方式清洁设备,但是清洗所产生的污水若没有专门的收集排水方式,容易四处溢流,造成设备安装地面淌水的情况。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题是提供一种能够实现对灯检机清洗污水进行集中收集并排水的灯检机排水系统。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:灯检机排水系统,包括支撑架和底座盖板,所述底座盖板安装于支撑架上,底座盖板的四周边沿设置有向上的挡边,在底座盖板上设置有至少一个地漏,在地漏下端设置有排水管道。

进一步的是:在底座盖板上设置有灯检机主轴安装通孔,在底座盖板上位于灯检机主轴安装通孔的外围设置有一圈向上延伸的隔离围堰。

进一步的是:在地漏内设置有过滤筛网。

进一步的是:所述挡边为底座盖板的四周边沿向上弯折后形成。

进一步的是:在排水管道上设置有阀门。

进一步的是:所述地漏设置有两个。

进一步的是:所述底座盖板为以水平设置的矩形平台,两个地漏设置于矩形平台的其中两个拐角位置处。

本实用新型的有益效果是:本实用新型通过设置相应的挡边结构,这样利用挡边可在底座盖板上形成具有一定拦挡作用的槽结构,以起到对水的拦挡作用;同时通过设置相应的地漏、排水管道等结构后,可通过地漏及排水管道实现集中排水,这样即可有效地避免设备清洗产生的污水直接溢流到设备四周的安装地面的情况。

附图说明

图1为本实用新型所述的灯检机排水系统的立体示意图;

图2为本实用新型所述的灯检机排水系统的主视图;

图3为本实用新型所述的灯检机排水系统的俯视图;

图中标记为:支撑架1、底座盖板2、挡边3、地漏4、排水管道5、阀门6、主轴安装通孔7、隔离围堰8。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。

需要说明,若本实用新型中有涉及方向性指示用语,如上、下、左、右、前、后的方向、方位用语,是为了利于构件间相对位置联系的描述,非为相关构件、构件间位置关系的绝对位置特指,仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。若本实用新型中有涉及数量的用语,如“多”、“多个”、“若干”等,具体指的是两个及两个以上。

如图1至图3中所示,本实用新型所述的灯检机排水系统,灯检机排水系统,包括支撑架1和底座盖板2,所述底座盖板2安装于支撑架1上,底座盖板2的四周边沿设置有向上的挡边3,在底座盖板2上设置有至少一个地漏4,在地漏4下端设置有排水管道5。

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